[发明专利]被膜形成用涂布液的制造方法

权利要求书

1.被膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，具有以下工序：

得到含有使烷氧基金属(A)在溶剂(B)中进行水解·缩合反应而生成的缩合物的溶液的工序1，

得到将所述工序1中得到的溶液用溶剂(C)置换后的溶液的工序2；

其中，烷氧基金属(A)是选自式(1)表示的化合物中的至少1种烷氧基金属，

Ti(OR¹)₄    (1)

式中，R¹表示碳原子数为1～5的烷基；

溶剂(B)是选自碳原子数为1～10的醇、碳原子数为2～5的酯、四氢呋喃以及碳原子数为2～5醚中的至少1种有机溶剂；

溶剂(C)是选自碳原子数为2～10的二醇中的至少1种有机溶剂。

2.如权利要求1所述的被膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，烷氧基金属(A)还含有选自式(2)表示的化合物中的至少1种烷氧基硅烷，

(R²)_nSi(OR³)_4-n    (2)

式中，R²表示烷基、链烯基或芳基，R³表示碳原子数1～5的烷基，n表示0～2的整数。

3.如权利要求2所述的被膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，烷氧基硅烷是选自式(2)的n为0的化合物中的至少1种硅化合物。

4.如权利要求1～3中任一项所述的被膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，烷氧基金属(A)含有相对于1摩尔烷氧基钛为0.05～4摩尔的烷氧基硅烷。

5.如权利要求1～4中任一项所述的被膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，在工序1使用选自金属盐类的1种或多种催化剂。

6.如权利要求1～5中任一项所述的被膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，具有向工序2得到的溶液中添加与该溶液互溶的溶剂(D)的工序3。

7.被膜形成用涂布液，其特征在于，用权利要求1～6中任一项所述的制造方法得到。

8.被膜，其特征在于，用权利要求7所述的被膜形成用涂布液得到。

9.绝缘膜，其特征在于，用权利要求7所述的被膜形成用涂布液得到。

10.液晶显示元件用基板，其特征在于，具有用权利要求7所述的被膜形成用涂布液形成的被膜。

11.液晶显示元件，其特征在于，具有用权利要求7所述的被膜形成用涂布液形成的被膜。