[发明专利]制备高纯度苛性钾的方法有效

专利信息
申请号: 200680028556.5 申请日: 2006-08-08
公开(公告)号: CN101238067A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 刑部次功;今吉圣;浜守光晴 申请(专利权)人: 东亚合成株式会社
主分类号: C01D1/30 分类号: C01D1/30;B01D9/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制备 纯度 苛性钾 方法
【权利要求书】:

1.一种制备高纯度苛性钾的方法,该方法包括下列步骤:

在高温状态下,以48%的苛性钾浓度为基准,对钠含量为200mg/kg或更低且以氯化钾计的氯含量为15mg/kg或更低的苛性钾水溶液进行浓缩,从而使苛性钾一水合晶体析出;和

将该晶体与含所述一水合晶体的浆液分离。

2.权利要求1的制备高纯度苛性钾的方法,其中以48%的苛性钾浓度为基准,该苛性钾水溶液的钠含量大于10mg/kg。

3.权利要求1或2的制备高纯度苛性钾的方法,其中以48%的苛性钾浓度为基准,该苛性钾水溶液的以氯化钾计的氯含量大于1mg/kg。

4.权利要求1-3中任一项的制备高纯度苛性钾的方法,其中将该如此分离的晶体用水或者苛性钾水溶液漂洗。

5.权利要求1-4中任一项的制备高纯度苛性钾的方法,其中该高温状态为高于70℃且不高于150℃的温度。

6.权利要求1-5中任一项的制备高纯度苛性钾的方法,其中在结晶器内的母液的苛性钾浓度为57%-70%。

7.权利要求4-6中任一项的制备高纯度苛性钾的方法,其中以用量为所述晶体量的1/3-1/200倍的液体量对该晶体进行漂洗。

8.权利要求1-7中任一项的制备高纯度苛性钾的方法,其中将该母液和/或权利要求4所述的漂洗液体的苛性钾浓度调节到49%-65%,对该母液和/或漂洗液体进行再利用,所述母液由权利要求1-3中任一项的从中分离出该晶体的含有该一水合晶体的浆液产生。

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