[发明专利]射线转换器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200680026236.6 申请日: 2006-07-12
公开(公告)号: CN101223258A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 曼弗雷德·富克斯;马丁纳·豪森 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: C09K11/61 分类号: C09K11/61;G01T1/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张亮
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 射线 转换器 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种根据权利要求1前序部分所述的射线转换器。此外,本发明还涉及一种根据权利要求7前序部分所述的制造这种射线转换器的方法。

背景技术

射线转换器应用于医疗成像诊断领域。射线转换器主要在X射线图像放大器、X射线检测器和X射线摄影装置中用作增感屏,此外还用于存储发光材料成像系统和摄像机中。这种射线转换器用闪烁体层或发光体层吸收高能射线,再将其转换成光。借助光电二极管或CCD检测这部分光,并通过连接在后面的电子设备对其进行分析。

在用碱性卤化物(例如CsJ:Tl)制备发光体层的情况下,根据现有技术所产生的光的发射峰位通常在540nm至560nm的范围内。但与此不同的是,光电二极管和CCD的最高感光度的范围是500nm至520nm。这会引起光输出的损失,必须通过非期望地增大射线剂量才能补偿这部分光输出损失。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的缺点。为此,本发明提供一种射线转换器,将这种射线转换器与传统的光敏传感器结合使用,可以改善光输出。此外,本发明还提供一种制造这种射线转换器的方法。

这个目的通过权利要求1和7的特征而达成。本发明的合理实施方式可从权利要求2至6和权利要求8至12的特征中获得。

根据本发明的需要,铊含量的范围为200ppm至2000ppm。本发明出人意料地发现,如果使用本发明所建议的较少含量的铊,就可使发射峰位朝较小值方向移动。如果将本发明所提供的射线转换器与传统的光敏传感器结合使用,就可实现光输出的改善。

CsJ有利地含有一种用作共掺杂剂的碱金属。这种碱金属可选自下列组:K、Na、Rb。已经证实,特别有利的碱金属含量为0.1wt%至10.0wt%。使用本发明所建议的共掺杂剂可使发光体层的发射峰位进一步朝较小值方向移动。

针状晶体中沿基本垂直于衬底表面的晶体z轴的Tl浓度与Tl的平均浓度之间相差不超过50%,是合理的。结果表明,通过使Tl尽可能均匀地分布在CsJ晶格中,可以促进发射峰位朝较小值方向移动。

借助本发明所建议的措施,可使发光体层的发射峰位处于500nm至520nm的范围内。通过上述参数的变化,可使发射峰位很自然地与所用光敏传感器的感光度峰位相匹配。

根据本发明的进一步要求,本发明建议,制备本发明的射线转换器时,TlJ的用量被确定为使得所沉积的发光体层中的铊含量的范围为200ppm至2000ppm。TlJ的用量与选定的相应气相沉积条件有关。本领域技术人员可以在其知识技能范围内根据具体选定的气相沉积条件确定TlJ用量。

与现有技术不同的是,特别有利的做法是同时对CsJ、TlJ和可能存在的共掺杂剂进行气相沉积,使其从气态沉积到衬底上。借此可使铊特别均匀地分布在CsJ晶格中,从而出人意料地促使发射峰位朝较小值方向移动。为能同时对CsJ和TlJ进行气相沉积,可将CsJ和TlJ布置在气化设备两个独立的源中。也可将这两种物质混合起来,再从单个源进行气化。

同样地,用作共掺杂剂的碱性卤化物可从一个独立的源进行气化,也可与CsJ和/或TlJ混合在一起,再从单个源进行气化。

有关本发明的方法的实施方式请参见发光体层的实施方式,后者也可转用于本发明的方法。

附图说明

下面借助附图对本发明的示例性实施例进行详细说明,其中:

图1为掺杂有铊的第一CsJ层的发射谱;

图2为掺杂有铊和钾的第二CsJ层的发射谱;以及

图3为图1和图2所示的发射谱与符合现有技术的第三CsJ:Tl层的发射谱的对比图。

具体实施方式

图1显示的是一种掺杂有铊的CsJ层的发射谱。CsJ:Tl层的制备以传统方式通过气相沉积而实现,但是在其中同时对CsJ和TlJ进行气相沉积。在所制成的层中,Tl含量平均约为1500ppm。Tl特别均匀地包含在针状CsJ晶体中。晶体z轴(基本垂直于衬底表面)上的Tl含量与Tl的平均浓度之间相差不超过50%。

如图1所示,通过这种方式制成的层的发射峰位大约在530nm的范围内。

用传统方法对发射谱进行分析。如图1所示,发射谱由三个单峰组成,它们的峰位分别大致位于400nm、480nm和560nm。

图2显示的是第二CsJ层的发射谱,这种CsJ层中掺杂的铊含量与图1所示的层中的铊含量相同。与图1所示的层不同的是,制备图2所示的层时使用了共掺杂剂KJ,其用量使得制成的晶体中所混合入的钾含量约为0.5wt%。

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