[发明专利]光纤的处理方法无效
| 申请号: | 200680022119.2 | 申请日: | 2006-04-19 | 
| 公开(公告)号: | CN101203782A | 公开(公告)日: | 2008-06-18 | 
| 发明(设计)人: | 井上大 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 | 
| 主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00 | 
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光纤 处理 方法 | ||
1.一种光纤的处理方法,其特征在于包括;开始将光纤暴露在含有重氢的气体环境中的处理的开始步骤、
监视相对于具有1714nm或其附近波长的传播光的所述光纤的损耗值,在所述损耗值的变化量超过规定值时,使所述暴露结束的结束步骤。
2.一种光纤的处理方法,其特征在于包括;开始将光纤暴露在含有重氢的气体环境中的处理的开始步骤、
从被暴露在上述重氢中的所述光纤的一端,入射具有1714nm或者接近其波长的传播光,监视从所述光纤的另一端出射的所述传播光,并测量损耗值的测量步骤、
以及,当所述损耗值的变化量超过规定值时,使所述暴露结束的结束步骤。
3.,根据权利要求1或2所述的处理方法,其特征在于,作为监视所述损耗值的对象的波长范围在1709nm以上、1719nm以下。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的处理方法,其特征在于,所述规定的值是相对于所述开始步骤时的所述损耗值增加了大于等于0.01dB/km之后的值。
5.根据权利要求1至3任意一项所述的处理方法,其特征在于,所述的规定范围是相对于所述开始步骤时的所述损耗值增加了大于等于0.03dB/km之后的值。
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