[发明专利]化学修饰多糖的方法

权利要求书

1.一种化学修饰多糖组分的方法，该方法借助于机械装置和至少一种修饰试剂，其特征在于，用辊式滚轧机对多糖组分进行至少一次的机械处理，在该处理期间，至少二个相邻的并且逆向旋转的辊以不同的速度旋转，并且在机械处理之前和/或之中将多糖组分与修饰试剂混合。

2.如权利要求1所述的方法，

其特征在于

使用二、三或四辊滚轧机。

3.如权利要求1或2中任一项所述的方法，

其特征在于

重复机械处理一至三次。

4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，

其特征在于

相邻辊的转速差为10-500％，优选为100-300％，尤其优选为200％。

5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，

其特征在于

所述多糖组分选自果胶、半乳甘露聚糖、藻酸盐、琼脂、角叉菜聚糖、黄原胶、硬葡聚糖、淀粉、纤维素、胞外多糖、茁霉多糖和壳聚糖以及这些化合物的混合物。

6.如权利要求5所述的方法，

其特征在于

所述多糖组分是半乳甘露聚糖，该半乳甘露聚糖选自角豆粉、瓜尔豆粉、塔拉半乳甘露聚糖、肉桂半乳甘露聚糖或者罗望子半乳甘露聚糖。

7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，

其特征在于

所述修饰试剂选自环氧化物、烷基卤化物、氯乙酸、氯乙酸盐/酯、卤代醇、一-或二-烷基硫酸酯、氨、一级或次级烷基-或芳基胺、丙烯酸、丙烯酸酯、丙烯酰胺、马来酰胺酸衍生物、羧酸、碳酰氯、羧酸酐以及这些化合物的混合物。

8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，

其特征在于

基于多糖组分，修饰试剂的用量为0.1-300重量％。

9.如权利要求1至8中任一项所述的方法，

其特征在于

在机械处理期间，还使用选自水、油、醇、多元醇、聚乙二醇、聚乙二醇醚、硼酸盐以及气相或沉淀二氧化硅的助剂。

10.如权利要求9所述的方法，

其特征在于

基于多糖组分，所述助剂的用量为1-50重量％。

11.如权利要求1至10中任一项所述的方法，

其特征在于

所述机械处理是在至少一种催化剂的存在下进行的，其中基于多糖组分，催化剂的量为0.1-30重量％，优选0.5-10重量％并且尤其是1.0-5.0重量％。

12.如权利要求11所述的方法，

其特征在于

催化剂选自酸、碱和自由基引发剂。

13.如权利要求1至12中任一项所述的方法，

其特征在于

该方法在0-150℃下进行，其中该温度通过加热和/或冷却至少一个辊，和/或在所述机械处理之后加热或冷却反应混合物来调节。

14.如权利要求1至13中任一项所述的方法，

其特征在于

另外加入一种溶剂，优选是水。

15.如权利要求14所述的方法，

其特征在于

基于总反应混合物，所述溶剂的使用量小于70重量％，优选小于50重量％，并且尤其是小于30重量％。