[发明专利]高反射镜及其制造方法

权利要求书

1.一种高反射镜，它是基板上设有银膜的高反射镜，其特征在于，在所述高反射镜的最表面形成以碳为主成分的膜作为保护膜，并且所述以碳为主成分的膜的消光系数在0.1以下。

2.如权利要求1所述的高反射镜，其特征在于，在所述银膜的基板侧形成基底膜。

3.如权利要求2所述的高反射镜，其特征在于，所述基底膜是氧化物膜，通过溅射法形成，并且溅射法中的溅射气体实质上不包含氧化性气体。

4.如权利要求2或3所述的高反射镜，其特征在于，所述基底膜是氧化钛膜，并且该氧化钛膜由缺氧靶形成。

5.如权利要求1至4中任一项所述的高反射镜，其特征在于，所述以碳为主成分的膜通过溅射法形成，并且溅射法中的溅射气体实质上不包含氧化性气体。

6.如权利要求1至5中任一项所述的高反射镜，其特征在于，所述基底膜的物理膜厚是1～50nm，所述银膜的物理膜厚是60～300nm，并且所述碳膜的物理膜厚是2～20nm。

7.一种高反射镜的制造方法，其特征在于，在基板上(1)在溅射气体中实质上不包含氧化性气体的条件下，由溅射法形成基底膜；(2)由溅射法形成银膜；(3)在溅射气体实质上不包含氧化性气体的条件下，由溅射法在最表面形成以碳为主成分的膜作为保护膜。