[发明专利]基板处理装置无效
| 申请号: | 200680003521.6 | 申请日: | 2006-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN101111928A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
| 发明(设计)人: | 黑川祯明;樋口晃一 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;B08B3/10;B08B3/12;G02F1/13;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈英俊 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种基板处理装置,利用施加了超声波振动的处理液处理基板,其特征在于,具备:
振荡体,是直方体状并具有上述处理液的供给通路,该供给通路在该振荡体的长度方向的一端部的底面开口、且朝向该振荡体的长度方向的另一端部倾斜形成;
振子,设置在该振荡体的上表面,使振荡体进行超声波振动;及
第1冷却机构,冷却供给上述供给通路的处理液。
2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,在上述振荡体上设有用于冷却该振荡体的第2冷却机构。
3.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,供给上述供给通路的处理液不被加速而被供给上述基板。
4.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,上述第1冷却机构将上述处理液的温度冷却到10~18℃。
5.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,在上述处理液的供给通路,设有在该处理液中溶解气体的气体溶解机构。
6.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,具有:
转台,用于保持并旋转驱动上述基板;和
臂体,在该转台的上表面,沿着上述基板的直径方向被摇动驱动,
在上述臂体的前端部,上述振荡体设置成底面与上述基板对置。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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