[发明专利]用于选择最佳写入参数的方法和装置以及供所述方法和装置使用的光学记录媒质无效

专利信息
申请号: 200680002548.3 申请日: 2006-01-16
公开(公告)号: CN101107653A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: M·凯帕 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B7/125 分类号: G11B7/125
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 熊延峰;谭祐祥
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 选择 最佳 写入 参数 方法 装置 以及 使用 光学 记录 媒质
【权利要求书】:

1.一种用于设定光学记录装置中使用的写入参数最佳值的方法,该光学记录装置用于利用辐射光束(5)在光学记录媒质(1)上写入信息,所述方法包括以下步骤:

1)在记录媒质上写入一系列测试图案,每个图案以不同的辐射光束写入功率电平(P)值写入,

2)读取图案从而形成相应的读取信号部分(18、19),

3)由每个读取信号部分获得读取参数值,

4)针对读取参数和写入功率电平(P)的相关值,曲线拟合定义读取参数与写入功率电平(P)之间关系的函数,该曲线拟合函数具有写入功率电平的初始值(Pini),

5)从该曲线拟合函数获得特征性写入功率电平(Pchar),并且估计该特征性写入功率电平(Pchar)是否符合写入参数最佳值标准,且 

如果该特征性写入功率电平(Pchar)不符合写入参数最佳值的标准,则开始

6)通过重复过程获得一个或多个特征性写入功率电平(Pchar,n),在重复过程中由以下等式给出随后的写入功率电平(Pini,n)初始值

Pini,n+1=A Pini,n+(1-A)Pchar,n

其中A为常数,n为整数。

2.根据权利要求1所述的方法,其中该读取参数是从记录在记录媒质(1)上的信息获得的读取信号的振幅的调制(M)。

3.根据权利要求2所述的方法,其中曲线拟合函数可以具有以下形式:

P·M=α·(P-β),其中α和β具有由曲线拟合产生的值,并且其中将至少一个函数的写入参数的特征值(Pchar)设定为基本上等于第一倍增常数(κ)的β倍。

4.根据权利要求3所述的方法,其中从记录媒质(1)上的、包含表示将信息记录到所述记录媒质上的记录过程的控制信息的区域中读取第一倍增常数(κ)。

5.根据权利要求3所述的方法,其中在写入功率电平的预定拟合范围中实施定义直线的函数曲线拟合。

6.根据权利要求5所述的方法,其中由与每个曲线拟合函数相关的写入功率电平初始值(Pini)与范围系数(R)确定预定拟合范围的位置。

7.根据权利要求1所述的方法,其中该常数A处于0与1之间。

8.一种用于设定辐射光束写入功率电平(P)的最佳值(Popt)的方法,该方法用于光学记录装置中,该光学记录装置用于利用上述权利要求1中要求的设定写入参数最佳值的方法,借助具有写入功率电平(P)的辐射光束(5)在光学记录媒质(1)上写入信息,其中将写入功率电平(P)的最佳值(Popt)设定为等于写入参数的最佳值乘以第二倍增常数(ρ)。

9.根据权利要求8所述的方法,其中从记录媒质(1)上的、包含表示将信息记录到所述记录媒质上的记录过程的控制信息的区域中读取第二倍增常数(ρ)。

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