[发明专利]光拾取装置无效

专利信息
申请号: 200680000879.3 申请日: 2006-11-06
公开(公告)号: CN101099203A 公开(公告)日: 2008-01-02
发明(设计)人: 新勇一;大田耕平;桥村淳司;池中清乃 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
主分类号: G11B7/135 分类号: G11B7/135
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 许海兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 拾取 装置
【权利要求书】:

1.一种光拾取装置,其包括:射出波长λ1光束的第1光源;射出波长λ2光束的第2光源;耦合透镜,其配置在所述第1光束以及所述第2光束穿过的共同光路上;第1对物光学元件,其备有仅由折射面组成的光学面;第2对物光学元件,其备有仅由折射面组成的光学面;其中,从所述第1光源射出的所述波长λ1的第1光束穿过所述耦合透镜,由所述第1对物光学元件聚光,能够对保护层厚t1的第1光信息记录介质的信息记录面进行聚光点的形成,另外,从所述第1光源射出的所述波长λ1的第1光束穿过所述耦合透镜,由所述第2对物光学元件聚光,能够对保护层厚t2的第2光信息记录介质的信息记录面进行聚光点的形成,并且,从所述第2光源射出的所述波长λ2的第2光束穿过所述耦合透镜,由所述第2对物光学元件聚光,能够对保护层厚为t3、且轨迹间距大于所述第2信息记录介质的第3光信息记录介质的信息记录面进行聚光点的形成,其中,λ1<λ2、t2>t1、0.9t2≤t3≤1.1t2,

其特征在于,

所述耦合透镜能够在

使用所述第1光束,经由所述第1对物光学元件,对所述第1光信息记录介质的信息记录面进行聚光点形成的第1位置和、

使用所述第1光束,经由所述第2对物光学元件,对所述第2光信息记录介质的信息记录面进行聚光点形成的第2位置和、

使用所述第2光束,经由所述第2对物光学元件,对所述第3光信息记录介质的信息记录面进行聚光点形成的第3位置、之至少3个的光轴方向位置进行位置变化;

当使波长λ3的平行光束入射到所述第2对物光学元件上时,保护层厚为t4、且轨迹间距大于所述第3信息记录介质的第4光信息记录介质的信息记录面上形成的聚光点,其中,波阵面像差在0.07λ3rms以上,其中,1.7λ1≤λ3≤2.3λ1、t4>t3。

2.根据权利要求1中记载的光拾取装置,其特征在于,所述第1乃至第3光信息记录介质的至少1个具有多个信息记录面,对应所述对物光学元件聚光的信息记录面,所述耦合透镜在光轴方向作位置变化。

3.一种光拾取装置,其包括:射出波长λ1光束的第1光源;射出波长λ2光束的第2光源;耦合透镜,其配置在所述第1光束以及所述第2光束穿过的共同光路上,且备有所述波长λ1光束穿过时的出射角和所述波长λ2光束穿过时的出射角为相异的衍射构造;像差修正机构,其配置在所述共同光路上,且使所述波长λ1光束穿过时的球面像差量和所述波长λ2光束穿过时的球面像差量相异;第1对物光学元件,其备有仅由折射面组成的光学面;第2对物光学元件,其备有仅由折射面组成的光学面;其中,从所述第1光源射出的所述波长λ1的第1光束穿过所述耦合透镜以及所述像差修正机构,由所述第1对物光学元件聚光,能够对保护层厚t1的第1光信息记录介质的信息记录面进行聚光点的形成,另外,从所述第1光源射出的所述波长λ1的第1光束穿过所述耦合透镜以及所述像差修正机构,由所述第2对物光学元件聚光,能够对保护层厚t2的第2光信息记录介质的信息记录面进行聚光点的形成,并且,从所述第2光源射出的所述波长λ2的第2光束穿过所述耦合透镜以及所述像差修正机构,由所述第2对物光学元件聚光,能够对保护层厚为t3、且轨迹间距大于所述第2信息记录介质的第3光信息记录介质的信息记录面进行聚光点的形成,其中,λ1<λ2、t2>t1、0.9t2≤t3≤1.1t2,

其特征在于,

对穿过所述耦合透镜和所述像差修正机构的光束给出

第1像差状态,该状态适合于使用所述第1光束,经由所述第1对物光学元件,对所述第1光信息记录介质的信息记录面进行聚光点形成,和、

第2像差状态,该状态适合于使用所述第1光束,经由所述第2对物光学元件,对所述第2光信息记录介质的信息记录面进行聚光点形成,和、

第3像差状态,该状态适合于使用所述第2光束,经由所述第2对物光学元件,对所述第3光信息记录介质的信息记录面进行聚光点形成、之任何一个状态;

当使波长λ3的平行光束入射到所述第2对物光学元件上时,保护层厚为t4、且轨迹间距大于所述第3信息记录介质的第4光信息记录介质的信息记录面上形成的聚光点,其中,波阵面像差在0.07λ3rms以上,其中,1.7λ1≤λ3≤2.3λ1、t4>t3。

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