[实用新型]衬底架的传输固定装置

说明书

技术领域

本发明的实施例涉及传输衬底架的传输固定装置和封装。

背景技术

在用以形成显示板和半导体的衬底生产期间，衬底架可以用于保持一批衬底。例如，如晶片处理舟(boat)之类的衬底架具有一系列垂直定位的狭槽，每个该狭槽都能够保持半导体晶片。图1中图示了能够将半导体晶片保持在沉积室中的示例性衬底架10。该衬底架10包括数个石墨盘20，该石墨盘20由间隔件30分开并通过金属杆40保持在一起，该金属杆40通过间隔件30连接到基板50和顶板60上。架部件20、30、40和50可以用如碳化硅之类的陶瓷涂覆，以保护它们免于受到沉积环境影响，并防止来自衬底架10的污染物进入衬底处理室。衬底架10可以放置在沉积室中，如化学汽相沉积(CVD)室，用于将如多晶硅、非晶硅或二氧化硅之类的材料沉积在衬底叠层上。在该处理中，含硅气体导入到CVD室中，并且产生等离子体，同时衬底架10转动和受热。当示例性衬底架用于说明这种架时，应当理解的是，在如物理汽相沉积室(PVD)、蚀刻室和注入室之类的其它衬底处理设备或方法中使用的衬底架也可以使用。

在使用中，在几个处理循环之后，对架10进行清洁或修理，以去除积聚的处理沉积物。例如，在典型的CVD处理中，沉积在衬底上的CVD材料也沉积在衬底架10上。在数个CVD处理循环之后，CVD材料层堆积在衬底架10上。如果沉积物从衬底架上剥离，则沉积物的这种堆积层可能污染CVD室和衬底。因此，周期性地从衬底架10上去除沉积材料，以修理和清洁衬底架，用于在下一处理循环中使用。

通常，衬底架被封装和运输到装置外(off-site)的清洁设备，用于清洁或修理架10。然而，对架10的传输具有几个问题。首先，组装的衬底架较重，经常在大约50至100磅之间，而且易碎，这使得难以对它进行不破碎地运输。同时，架10对周围环境非常敏感，并在暴露到空气中时能够受到蚀刻或腐蚀。同时，形成在架10上的沉积物可以是对操纵者有毒或有害的。于是，在运送到清洁地点之前，通常在衬底架10上沉积包括不掺杂硅的薄密封层，以保护操纵者免于暴露到架上的沉积物。然后，衬底架10包裹到空气缓冲的“气泡包裹”中，并放置到用于运输的木质板条箱中。由于衬底架10非常易碎，所以必须在一个位置进行传输，即其纵轴在垂直方向；否则，衬底架的易碎部件能够碎裂或断裂。所有这些传输问题的解决方法都增加了清洁和修理架10的成本。

在传输到清洁地点的过程中，包括衬底架10的板条箱可能受到移民或执法人员的检查。为了进行检查，执法人员通常打开板条箱并去除气泡包裹，以确认板条箱中不包括违禁品。在检查之后，衬底架10重新封装并传输到清洁地点。在清洁地点处，衬底架在酸浴池中放置几个小时，以去除沉积材料层。到现在为止，衬底架10是组装的，因为沉积材料层将衬底架的部件胶合在一起，并且衬底架在不损伤部件的情况下无法拆卸。在第一次酸浴之后，沉积层去除并且衬底架的部件变为“脱胶的”。然后，将衬底架10拆卸，再次进行清洁，并在大约400℃下烘干大约十(10)个小时。一旦干燥之后，将拆卸整理的部件封装并运回消费地点，在消费地点处，衬底架10重新组装并准备使用。

在上述传输和修理过程期间，大比率的衬底架10受到不可修复的损害。例如，当衬底架10封装时，即包裹在气泡包裹中并放置在板条箱中、打开封装或重新封装时，例如在消费地点、在检查期间和在清洁地点，衬底架10的部件上的碳化硅涂层可以很容易地碎裂或断裂，使得部件无法使用。如果板条箱在传输期间倾斜或跌落，则易碎的部件能够破裂或碎裂。在重新组装衬底架方面，当通常没有经验和不熟练的实验技术人员重新组装衬底架时，衬底架10可能在消费地点受到损伤。除了损伤衬底架之外，当部件破裂或碎裂时，操纵者和/或检查人员可能暴露在薄密封层下面的有毒材料。

于是，期望能够有效地将衬底架10从无尘室传输到清洁或装置外设备，进行清洁或修理。也期望在封装、打开封装和传输过程期间使衬底架10的断裂最小化。还期望在不损伤部件的情况下，有效地清洁架10。还期望在处理和传输期间，保护操纵者免于暴露在架上的沉积物。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种用于衬底架的传输固定装置，其在传输期间缓冲、固定和保护衬底架，由此减小衬底架的断裂并提高传输效率。

用于保持衬底架的传输固定装置包括顶部端板和底部端板。数个支柱将顶部端板连接到底部端板上，并间隔开足够距离，以将衬底架限定在它们之间。每个支柱都具有纵向内部边缘。适应性缓冲器耦合到支柱的每个纵向内部边缘上。