[发明专利]图案形成用玻璃掩模及其制造方法和制造装置

说明书

技术领域

本发明涉及图案形成用玻璃掩模及其制造方法和制造装置，特别涉及利用在图案形成半导体元件或液晶显示器、等离子体显示器等的电极等的图案形成工序中所使用的光掩模的透过型曝光技术。

背景技术

在半导体元件或液晶显示器、等离子体显示等的制造工序的图案形成工序中，例如，主流的是使用利用在石英玻璃或者碱石灰玻璃中使用铬或者氧化铬薄膜等形成图案的玻璃掩模，以形成电极等图形的方法。但是，随着形成图案对象物的曝光面积的增大，而必需增大玻璃掩模的面积，由于玻璃掩模的自重造成挠度的原因，产生形成图案精度不良的问题。在玻璃掩模面积增大的同时，由于玻璃掩模变厚，刚性提高，使得挠度减少，但制造高纯度的玻璃困难，在玻璃掩模中混入气泡或杂质的可能性高，因此在制品中产生图案缺陷等问题。

作为解决该问题的方法，已知有利用缸体等将外力施加给玻璃掩模，利用气压差强制地减少挠度的方法，或者与玻璃掩模的挠度量一致，强制地改变形成图案对象物的形状，解决因挠度原因造成形成图案精度恶化的方法(参照特许文献1和2)。

特许文献1：日本特开2003-167355号公报

特许文献2：日本特开2003-131388号公报

然而，利用现有的方法，必需具有高精度的挠度量测量装置和反馈其信息并高精度地改变玻璃掩模或者形成图案对象物的形状的装置，因此，曝光装置整体的价格昂贵。

另外，因为增加测量玻璃掩模或者形成图案对象物的挠度量，并根据其信息，使玻璃掩模或者形成图案对象物变形的工序，因此，使制品的处理周期变长，生产效率不好。

而且，因此根据玻璃掩模的形状或者形成图案对象物的材料、形状而强制地从外侧施加作用力，因此，存在使玻璃掩模或者形成图案对象物破损的危险性。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种通过利用重合使用廉价且纯度高的玻璃的多块玻璃的层叠结构，而能够提高形成图案的精度，并且价格便宜、生产率高的图案形成用玻璃掩模。

本发明提供一种图案形成用玻璃掩模，其包括重合的多块玻璃板和由至少一块玻璃板保持的图案形成层。

该图案形成用玻璃掩模还可以包括插入在多块玻璃板之间的透光性部件。

透光性部件优选由具有粘接性的材料构成。

此外，玻璃板可以由碱石灰玻璃、高变形点玻璃、石英玻璃、合成石英玻璃、硼硅酸玻璃(borosilicate glass)、铝硅酸玻璃、铅玻璃和硼酸盐玻璃中的一种形成。

图案形成层也可以由包含银盐乳剂、铬和氧化铬中的至少一种的材料形成。

另外，本发明的另一方面，提供一种图案形成用玻璃掩模的制造方法，其包括将至少一块具有图案形成层的多块玻璃板重合浸渍在收容有液状硬化型粘接剂的处理槽中，将上述粘接剂充填在相邻的各两块玻璃板之间，并从处理槽中取出多块玻璃板，以使玻璃板之间的粘接剂硬化的工序。

硬化型粘接剂选自紫外线硬化型环氧树脂、紫外线硬化型丙稀酸树脂、热硬化型丙烯酸树脂和热硬化型环氧树脂中的一种。

采用本发明，通过使用具有重合多块玻璃板结构的玻璃掩模，而能够得到与增厚玻璃掩模并提高刚性的效果相同的效果，并能够减少掩模的挠度。另外，由于没有必要增厚玻璃板本身，所以，作为光掩模的材料可以使用廉价且容易制造的高纯度玻璃。另外，由于玻璃掩模本身具有刚性，因此能够减少挠度，而且不需要高精度测量挠度量的装置或者反馈其信息以高精度地改变玻璃掩模或者形成图案对象物的形状的装置，因此，能够使曝光装置整体的成本降低以及通过缩短制品的处理周期以提高生产率，由此，可以进行高精度的形成图案。

附图说明

图1是本发明的图案形成用玻璃掩模的结构说明图。

图2是本发明的制造装置的结构说明图。

图3是使用本发明的图案形成用玻璃掩模的曝光装置的说明图。

图4是表示图3所示的曝光装置的控制部的方框图。

符号说明