[发明专利]激光诱导热成像装置、方法和制造有机发光二极管的方法

说明书

本申请要求已于2005年11月16日提交到韩国知识产权局的第2005-109818号韩国申请的优先权，该申请的内容合并于此作为参考。

技术领域

本发明的各方面涉及激光诱导热成像装置、激光诱导热成像方法和利用其制造有机发光二极管的方法，更具体地涉及在使用激光诱导热成像方法将有机薄膜层层压在受体基板上时，能够通过向基板提供磁体和具有磁性物质的接触框架，依靠磁力来提高受体基板和供体薄膜的成像层之间的粘合力的激光诱导热成像装置和激光诱导热成像方法；以及制造有机发光二极管的方法。

背景技术

本发明的各方面涉及激光诱导热成像装置、激光诱导热成像方法和利用其制造有机发光二极管的方法，更具体地涉及在使用激光诱导热成像方法将有机薄膜层层压在受体基板上时，能够通过向基板提供磁体和具有磁性物质的接触框架，依靠磁力来改进受体基板和供体薄膜的成像层之间的粘合力的激光诱导热成像装置和激光诱导热成像方法；以及制造有机发光二极管的方法。

在形成有机发光二极管的有机薄膜层的各方法中，通过用遮光板而真空沉积有机发光材料来形成有机薄膜层的沉积方法，具有例如由于诸如变形掩模等问题引起的难以形成特级微图案以及难以用于大面积显示等缺点。

为了解决该沉积方法的这些问题，已经提出了对有机薄膜层直接形成图案的喷墨方法。喷墨方法为通过从喷墨打印机头排出排放溶液以形成有机薄膜层的方法，其中排放溶液通过将发光材料溶解或分散在溶剂中而制备。虽然该喷墨方法在处理上相对简单，但具有例如产量下降、薄膜厚度不均匀和难以适用于大面积显示等缺点。

同时，也提出了使用激光诱导热成像处理以形成有机薄膜层的方法。在该激光诱导热成像方法中，成像层紧密地粘合在受体基板上，并且随后通过激光束热量被转移到那里。该转移通过以下方式实现：对包括底部基板、光-热转换层和成像层的供体薄膜扫描激光；在光-热转换层中将通过底部基板的激光束转换为热量，以延伸该光-热转换层；以及延伸邻近的成像层，使得在该激光束被扫描的地方，有机层被转移到受体基板上。激光诱导热成像方法的固有优点包括高分辨率图案信息、均匀的薄膜厚度、对多层进行层压的能力以及延伸成大尺寸样品玻璃的性能。

现有的激光诱导热成像方法通常是在真空下进行，使得发光层在其中转移的同一室能够与形成发光设备的其它沉积方法匹配，但当激光诱导热转移根据现有方法在真空状态下进行时，其缺点在于，由于供体薄膜和受体基板之间的连接力被减小，成像层的转移性能会下降。因此，对供体薄膜和受体基板进行层压的方法在激光诱导热成像方法的情况是十分有益的，从而已经尝试着解决这些问题。

下文中，将参照附图详细描述现有激光诱导热成像方法和常规激光诱导热成像装置。

图1是现有激光诱导热成像装置的局部横截面图。

参照图1，激光诱导热成像装置100包括设置于室110之内的基板台120和设置于室110的上部的激光照射装置130。

基板台120顺序地设置受体基板140和引入室110中的供体薄膜150，其中，在基板台120之内形成分别用于设置受体基板140和供体薄膜150的第一固定槽121和第二固定槽123。第一固定槽121沿着受体基板140的周边方向而形成，第二固定槽123沿着供体薄膜150的周边方向而形成。通常，受体基板140的面积比供体薄膜150的面积小，因此，第一固定槽121以比第二固定槽123小的尺寸而形成。

此时，为了在受体基板140与供体薄膜150之间没有杂质101或空间的情况下进行层压，激光诱导热转移在其中产生的室110的内部没有保持在真空状态，管道161、163分别将第一固定槽121下部和第二固定槽123的下部连接到真空泵P的吸气风门，以通过吸气将受体基板140和供体薄膜150互相连接。

然而，虽然制造有机发光二极管的其它方法在真空下进行，但在该室内部处于真空状态时，通过真空泵的吸气将受体基板和供体薄膜紧密粘合的方法并非有效，因此其它方法的缺点在于，产品的寿命和可靠性会由于不充分连接而受到不利地影响。

发明内容

为了解决以上所提到的现有技术的上述和/或其它缺点，设计了本发明的各方面。相应地，本发明的各方面提供了通过利用接触框架和受体基板之间的磁力转移供体薄膜的成像层，能够形成有机发光层的激光诱导热成像装置和激光诱导热成像方法；以及利用其制造有机发光二极管的方法。