[发明专利]微影系统及其制程

权利要求书

1.一种微影制程，其特征在于其包括：

接收具有一感光层的一基底；

提供一光源，能够使该感光层的一部分曝光；

提供一光罩，能够定义出要转移到该感光层的至少一个图案，其中该 光罩在其第一表面处接收来自所述光源的电磁波，且从其第二表面产生多 个电磁成分；

提供一透镜，用于将该图案转移到该感光层，且该透镜在其下表面处 提供平整表面，该透镜以三维方式进行移动；以及

调节该透镜的平整表面与该基底的上表面之间的距离，以控制投射到 该感光层上的该些电磁成分的数目和量，通过透镜传输的该些电磁成分的 数目和量，转移到感光层的图案的清晰度和/或解析度可变化，其中该透镜 的平整表面与该基底的上表面之间的距离在10纳米以下。

2.根据权利要求1所述的微影制程，其特征在于其中所述的光罩包括 多个绕射光栅，用于定义要转移到该感光层的所述图案。

3.根据权利要求1所述的微影制程，其特征在于其中该些电磁成分包 括所述电磁波的绕射。

4.根据权利要求1所述的微影制程，其特征在于其中提供该透镜的平 整表面和该基底的上表面之间无中间物质。

5.根据权利要求1所述的微影制程，其特征在于其中所述的光源包含 具有约为248纳米或更小的波长的紫外线光源。

6.根据权利要求1所述的微影制程，其特征在于其中所述的基底的上 表面具有约100埃或小于100埃的表面平整度变化。

7.根据权利要求1所述的微影制程，其特征在于其中所述的感光层包 含光阻层。

8.根据权利要求1所述的微影制程，其特征在于其中所述的基底在该 感光层的上方具有抗反射层。

9.一种微影系统，其特征在于其包括：

一基底台，用于支撑具有一感光层的一基底；

一光源，其能够使该感光层的一部分曝光；

一光罩，其能够定义要转移到该感光层的至少一个图案，该光罩在其 第一表面处接收来自所述光源的电磁波，且从其第二表面产生多个电磁成 分；

一光罩台，用于支撑该光罩；

一透镜，用于将该图案转移到该感光层，且该透镜在其下表面处提供 平整表面；

一透镜台，用于支撑该透镜，且以三维方式移动该透镜；以及

一台控制装置，其与该基底台和该透镜台中的至少一者耦合，该台控 制装置能够调节该透镜的平整表面与该基底的上表面之间的距离，以控制 投射到该感光层上的该些电磁成分的数目和量，通过透镜传输的该些电磁 成分的数目和量，转移到感光层的图案的清晰度和/或解析度可变化，其中 该透镜的平整表面与该基底的上表面之间的距离在10纳米以下。

10.根据权利要求9所述的微影系统，其特征在于其中所述的光罩包 括多个绕射光栅，用于定义要转移到该感光层的所述图案。

11.根据权利要求9所述的微影系统，其特征在于该些电磁成分包括 所述电磁波的绕射。

12.根据权利要求9所述的微影系统，其特征在于其中提供所该透镜 的平整表面和该基底的上表面之间无中间物质。

13.根据权利要求9所述的微影系统，其特征在于其中所述的光源包 含具有约为248纳米或更小的波长的紫外线光源。

14.根据权利要求9所述的微影系统，其特征在于其中所述的基底的 上表面具有约100埃或小于100埃的表面平整度变化。