[发明专利]一种镁合金化学抛光处理工艺无效
| 申请号: | 200610123181.2 | 申请日: | 2006-10-31 |
| 公开(公告)号: | CN101173362A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
| 发明(设计)人: | 陈龙 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司 |
| 主分类号: | C23F3/03 | 分类号: | C23F3/03 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 528308广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 镁合金 化学抛光 处理 工艺 | ||
1.一种镁合金化学抛光溶液,其特征在于,以水为溶剂,其每升溶液中包括:
硝酸 40~100g/L;
草酸 10~50g/L;
硫脲 1~10g/L。
2.根据权利要求1所述的镁合金化学抛光溶液,其特征在于,所述硝酸为工业常用硝酸,其浓度一般为66~68%(体积比)。
3.一种镁合金化学抛光工艺,其特征在于,主要包括以下步骤:
a.前处理,其用以将初始镁合金工件进行清洗、除油等表面清洁;
b.化学抛光,进而将经上述处理后的镁合金工件浸渍于如权利要求1或2所述的化学抛光溶液中;
c.后处理,抛光完成后,则将该工件进行清洗、烘干等处理。
4.根据权利要求3所述镁合金化学抛光工艺,其特征在于,所述前处理可包括机械处理、碱洗、酸洗及清洗等步骤。
5.根据权利要求3所述镁合金化学抛光工艺,其特征在于,所述化学抛光其温度控制在20~50℃之间。
6.根据权利要求3所述镁合金化学抛光工艺,其特征在于,所述化学抛光其浸渍时间为1~5分钟。
7.根据权利要求3所述镁合金化学抛光工艺,其特征在于,所述清洗优选为用去离子水超声波清洗。
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