[发明专利]一种镁合金化学抛光处理工艺无效

专利信息
申请号: 200610123181.2 申请日: 2006-10-31
公开(公告)号: CN101173362A 公开(公告)日: 2008-05-07
发明(设计)人: 陈龙 申请(专利权)人: 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
主分类号: C23F3/03 分类号: C23F3/03
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 528308广东省佛*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 镁合金 化学抛光 处理 工艺
【权利要求书】:

1.一种镁合金化学抛光溶液,其特征在于,以水为溶剂,其每升溶液中包括:

硝酸                   40~100g/L;

草酸                   10~50g/L;

硫脲                   1~10g/L。

2.根据权利要求1所述的镁合金化学抛光溶液,其特征在于,所述硝酸为工业常用硝酸,其浓度一般为66~68%(体积比)。

3.一种镁合金化学抛光工艺,其特征在于,主要包括以下步骤:

a.前处理,其用以将初始镁合金工件进行清洗、除油等表面清洁;

b.化学抛光,进而将经上述处理后的镁合金工件浸渍于如权利要求1或2所述的化学抛光溶液中;

c.后处理,抛光完成后,则将该工件进行清洗、烘干等处理。

4.根据权利要求3所述镁合金化学抛光工艺,其特征在于,所述前处理可包括机械处理、碱洗、酸洗及清洗等步骤。

5.根据权利要求3所述镁合金化学抛光工艺,其特征在于,所述化学抛光其温度控制在20~50℃之间。

6.根据权利要求3所述镁合金化学抛光工艺,其特征在于,所述化学抛光其浸渍时间为1~5分钟。

7.根据权利要求3所述镁合金化学抛光工艺,其特征在于,所述清洗优选为用去离子水超声波清洗。

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