[发明专利]发动机内壁陶瓷化处理方法在审

专利信息
申请号: 200610119571.2 申请日: 2006-12-13
公开(公告)号: CN101200802A 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 俞月明;石秉钧;石文渊;苏其灿 申请(专利权)人: 上海坤孚企业(集团)有限公司;上海坤孚通用机械制造有限公司;上海坤孚车辆配件有限公司
主分类号: C23C28/04 分类号: C23C28/04;C23C16/27;C23C14/08;C23C14/34;C23C14/24;C23C16/513;F02F1/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 王敏杰
地址: 201202上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 发动机 内壁 陶瓷 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种发动机内壁陶瓷化处理方法,其特征在于:利用C70具有较高的热稳定性和较低的几何对称性,易于形成类金刚石核陶瓷化薄膜,基于C70的分子在真空溅射负载发动机金属内壁的刚玉异质基材上,且未作抛光处理状态下,在利用射频CVD设备,温度环境为300-500度的预处理工艺的气氛为CH4、CF4气源作用下实现类金刚石均匀形核产生。

2.根据权利要求1所述的发动机内壁陶瓷化处理方法,其特征在于:该C70是通过石墨电极在电弧放电中生成的碳灰经过反复抽提纯化得到,C70纯度3N。

3.根据权利要求1所述的发动机内壁陶瓷化处理方法,其特征在于:该真空处理陶瓷化膜采取常规真空蒸镀设备,制作与摩托车发动机缸筒口径的夹具作为真空作为真空蒸镀腔室入口,然后将C70蒸镀到发动机内壁异质基材刚玉层上;该真空蒸镀条件是:

真空度                      10-5torr;

腔室温度                    150-300度;

蒸镀时间                    10-15分钟。

4.根据权利要求1所述的发动机内壁陶瓷化处理方法,其特征在于:该等离子体预处理是利用射频CVD设备,以直流射频CVD方等离子体轰击C70薄膜层的气氛环境为H2、CF4气源混合气预处理条件是:

真空度                       0.1-0.5torr;

H2流量                       50-100sccm;

CF4流量                      10-30sccm;

发动机内壁温度               300-500度;

等离子体轰击预处理时间       10-30分钟。

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