[发明专利]等离子显示器及其制造方法无效
| 申请号： | 200610086024.9 | 申请日： | 2006-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN101110181A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 崔伦永;朴宰范 | 申请（专利权）人： | 乐金电子（南京）等离子有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/313 | 分类号： | G09F9/313;H01J17/49 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄威;张金海 |
| 地址： | 210046江苏省南京*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子 显示器 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种包括格栅在内的等离子显示器，其特征在于，
所述格栅包括第一格栅和第二格栅及第三格栅，
在玻璃基板上形成蚀刻的第一格栅和上述第一格栅之间放电空间突出的第二格栅，
在上述第二格栅上部形成寻址电极，
在上述第一格栅上部形成第三格栅。
2.如权利要求1所述的等离子显示器，其特征在于，
所述第二格栅的高度小于或等于上述第一格栅高度。
3.一种等离子显示器的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
为了能够形成第一格栅和第一格栅之间的单元放电空间突出的第二格栅，蚀刻玻璃基板的步骤；
上述第二格栅上部形成寻址电极的步骤；
使上述寻址电极覆盖单元放电空间，形成电介质层的步骤；
第一格栅上部形成第三格栅的步骤；
给上述单元放电空间涂抹荧光体层的步骤。
4.如权利要求3所述的等离子显示器制造方法，其特征在于，所述蚀刻工程是使用喷砂处理法。
5.如权利要求3所述的等离子显示器制造方法，其特征在于，所述第二格栅高度小于或等于上述第一格栅高度。
6.如权利要求3所述的等离子显示器制造方法，其特征在于，所述第三格栅使用丝网印刷法。
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