[发明专利]薄膜图案层制造方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及一种薄膜图案层的制造方法。

【背景技术】

目前制造薄膜图案层的方法主要包括：光微影法及喷墨法。

光微影法：通过在基板上涂敷光阻材料，将具有预定图案的光罩设于光阻材料上，进行曝光显影，或加上蚀刻制程，而形成具有预设图案的薄膜图案层。该光微影法需要抽真空装置等大型设备或复杂的制程，并且，材料的使用效率较低而造成制造成本高。

喷墨法：喷墨方法能够一次形成薄膜图案层，使得制备过程大量简化，成本大幅降低。故喷墨方法具有制程简化、环保、节省原料等优点。在目前进行的薄膜图案层制作中，喷墨法皆是使用喷墨装置在已形成挡墙的玻璃基板上进行喷墨，并且一收容空间使用一个喷嘴进行喷墨，使墨水干燥形成薄膜图案层。

然而，因为每个喷嘴的喷墨量与喷嘴有一定的联系，故往往容易造成各收容空间的墨量差异较大，从而造成薄膜图案层不均匀的状况。

【发明内容】

有鉴于此，有必要提供一种能提高均匀度的薄膜图案层的制造方法。

一种薄膜图案层的制造方法，其步骤如下：提供一个基板；在该基板上形成多个挡墙，该挡墙与基板限定多个收容空间；通过喷墨头将所需的墨水喷入收容空间内，并且使用至少两个喷嘴对同一个收容空间喷墨；干燥固化收容空间中的墨水而形成薄膜图案层。

由于每个喷嘴的喷墨量因喷嘴而有所差异，相较于现有技术，所述薄膜图案层的制造方法，使用至少两个喷嘴对同一个收容空间喷墨，故可以降低各收容空间的墨量差异，从而提高薄膜图案层的均匀度。

【附图说明】

图1至图14为本发明实施例提供的一种薄膜图案层的制造方法示意图，其中：

图1为基板剖面示意图。

图2为形成有挡墙的基板剖面示意图。

图3至图4为喷墨步骤的第一实施方式示意图。

图5至图8为喷墨步骤的第二实施方式示意图。

图9至图12为喷墨步骤的第三实施方式示意图。

图13为形成有薄膜图案层的基板剖面示意图。

图14为形成有透明导电层的基板剖面示意图。

【具体实施方式】

下面将结合附图对本发明实施例作进一步的详细说明。

请一起参阅图1到图14，是本发明实施例提供的一种薄膜图案层的制造方法示意图，该方法的步骤如下：

步骤一：提供一个基板100，如图1所示。本实施例中该基板材料选用玻璃。当然，基板材料也可选用石英玻璃、硅晶片(Silicon Wafer)、金属或塑料等。

步骤二：在该基板100上形成多个挡墙102，该挡墙限定多个收容空间104，如图2所示。挡墙102是由树脂材料组成。该挡墙102可通过光罩对光阻材料层曝光显影形成。

步骤三：通过喷墨头200将所需的墨水喷入收容空间104内，并且使用至少两个喷嘴202、204对同一个收容空间104喷墨，如图3及图4所示。

以收容空间104为例，先使用喷墨头200中的喷嘴202对收容空间104喷墨，接着朝收容空间104的方向水平移动喷墨头200，喷嘴204再对收容空间104喷墨。

作为步骤三的第二种实施方式，也可通过一喷墨头300将所需的墨水喷入收容空间104内，并且使用至少两个喷嘴302、304对同一个收容空间104喷墨，如图5至图8所示：

以收容空间104为例，喷墨头300先沿着第一方向移动；

喷墨头300中的喷嘴302对收容空间104喷墨；

喷墨头300继续沿着第一方向移动；

在喷墨头300移动到收容空间104的右侧后，再沿着与第一方向垂直的第二方向移动喷墨头300；

当喷墨头300移动至喷嘴304与收容空间104在同一直线上，喷墨头300沿着第一方向的反方向移动；

喷嘴304再对收容空间104喷墨；

喷墨头300继续沿着第一方向的反方向移动。

作为步骤三的第三种实施方式，也可通过喷墨头400、500将所需的墨水喷入收容空间104内。在本实施方式中，喷墨头400、500是为同一型号的喷头，设置在同一机台(图未示)，且两者相对位置保持固定。使用喷墨头400、500中的喷嘴402、502对同一个收容空间104喷墨，如图9至图12所示。

将喷墨头400、500可视作一个整体，该整体的运动轨迹与步骤三的第二种实施方式中喷墨头300的运动轨迹一样，在此不再一一赘述。以收容空间104为例，先使用喷墨头500中的喷嘴502对收容空间104喷墨，然后使用喷墨头400喷嘴402再对收容空间104喷墨。