[发明专利]面板蚀刻制程的方法及其装置

说明书

发明领域

本发明是有关一种面板蚀刻制程的方法及其装置，尤指一种可在蚀刻制程中改善蚀刻均匀度以及增进蚀刻效率的方法及装置。

背景技术

湿式蚀刻技术是利用薄膜与特定溶液间所进行的化学反应来去除基底上的薄膜，以便在基底上形成所需的图案或是令该基底完成薄型化工程，此技术的优点是制程单纯、设备简单、成本低廉以及加工效率快。然如所知，蚀刻是利用化学反应来进行薄膜的去除或薄型化工程，而化学反应本身并不具方向性，所以这种等向性的蚀刻特征导致其较难以精确操控在局部位置的蚀刻结果；另外，此种蚀刻方式由于受到蚀刻液本身黏稠度的影响，很难使整个表面均匀地蚀刻，导致有部分区域造成蚀刻不完全，而在其它区域则有底切(undercutting)的现象，严重影响产品良率；然而随着产品组件的尺寸越作越小，加工精度越来越高，蚀刻加工的均匀度也就更显重要了。

此外，近年来在消费性电子产品益趋于轻薄短小的趋势下，使这类产品的基本组件～显示面板亦被要求必须符合轻薄的要件，而一般显示面板的轻薄化主要是通过由对其玻璃基板施行薄型化制程来达成目的；在众多已知的薄型化制程技术中最常被采用的就是蚀刻的方式，这主要是考虑到蚀刻的薄型化制程通常具有优良的加工效率，且制程中不易产生应力造成薄玻璃板的损害，然而诚如前段所述，蚀刻加工过程的缺失也会衍生许多不良的结果，例如：蚀刻不均匀导致玻璃板体各部厚薄不一(尤其应用于较大面积的玻璃基材时)，使玻璃板体的机械强度锐减而容易遭受损害，而蚀刻不均匀亦会产生表面粗糙的情况，影响到液晶显示组件的影像品质。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种改良的面板蚀刻制程的方法及其装置，是用以在面板上形成所需图案及/或用来进行面板的薄型化制程，其是将面板平置地固设于一蚀刻工作槽中，然后在槽中注入适量足以沉浸该面板的蚀刻液，并于蚀刻的进程中使该槽体以呈向一侧倾斜并作圆锥形旋转运动，以令槽中的蚀刻液顺沿槽体倾斜旋动而流动，使之对平置固设在槽内的面板产生往复旋动冲洗效果，以加速蚀刻效率，并通过由该流动使蚀刻液可均匀地接触面板表面，因而获致均匀的蚀刻效果。

根据本发明所提供的面板蚀刻制程的方法，其进行蚀刻制程的步骤是：首先是提供一工作槽，并将欲蚀刻加工的面板平置地固设于该工作槽中，再对该工作槽中提供足以沉浸该面板的蚀刻液以进行蚀刻，并在蚀刻进程中，使该槽体以呈向一侧倾斜并作圆锥形旋转运动，以令槽中的蚀刻液顺沿槽体倾斜旋动而流动；于蚀刻加工完成后，自该工作槽中分离蚀刻液后，再取出已完成蚀刻加工的面板。

又，如果为了在该面板表面形成特定图形的目的，则可于前述蚀刻制程前，先对该面板进行光阻制程以设定其表面蚀刻图案。

又根据本发明，该面板蚀刻制程的装置至少包含：一可固持欲蚀刻加工面板的工作槽，一蚀刻液进给单元，以及一可提供槽体运动的旋晃驱动单元；其中，该工作槽内设有一组固持单元可将面板平置固设于槽中，而该固持单元包含至少一组设于该工作槽一槽墙内侧面上的固定夹头，以及至少一组设在另一对应槽墙内侧面上的活动夹头，最好，于前述固定夹头与活动夹头的端部均设具一V形凹槽，以便使被挟持的面板能自动导正对位，同时增加挟持后的稳固性。该蚀刻液进给单元具有连通于该工作槽的溶液排放管道，可对该工作槽提供提供足以沉浸该面板的蚀刻液，例如是氢氟酸(HF)的稀释溶液，并收纳自该工作槽排出的蚀刻液；该旋晃驱动单元乃具一基座可与前述工作槽底面固结，在该基座底面串接一轴杆，并于该轴杆下端枢接于一马达的旋转臂，且该轴杆中段部位设有一限定套；利用将面板平置固设于该工作槽中，并由该蚀刻液进给单元对该工作槽中提供足以沉浸该面板的蚀刻液，于蚀刻的进程中，通过由该旋晃驱动单元使该槽体以呈向一侧倾斜并作圆锥形旋转运动，使槽中的蚀刻液顺沿槽体倾斜旋动而流动，以便使蚀刻液在被蚀刻表面上呈连续相对流动状态，来确保被蚀刻面各部位的蚀刻加工度均匀，并可让蚀刻出的残屑可迅速从该表面分离，据此提升蚀刻加工的效率。

前述固持单元可将一片或一片以上的面板平置固设于该工作槽中，更进一步，为了在同一时间内进行多片面板的蚀刻制程，更可在该工作槽中设置复数组彼此呈上下及(或)彼此平行并列的固持单元，且令各个固持单元间彼此保持有适当之间隙距离，以便利蚀刻液可顺利在各表面间的流动。

此外，该蚀刻液进给单元亦可选择性的包含一循环过滤器，其可将自该工作槽中收取的蚀刻液进行过滤净化处理，据此将混杂在蚀刻液中的蚀刻残屑和尘粒滤除净化，并利用溶液循环的搅拌效应促进蚀刻液的均匀度。