[发明专利]一种用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法有效

专利信息
申请号: 200610061925.2 申请日: 2006-07-31
公开(公告)号: CN101119614A 公开(公告)日: 2008-02-06
发明(设计)人: 张芬菊 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K3/06;H05K3/26
代理公司: 深圳创友专利商标代理有限公司 代理人: 喻尚威
地址: 518119广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 双面 多层 柔性 印刷 线路板 图形 电镀 方法
【权利要求书】:

1.一种用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,依次有以下步骤:下料→机械钻孔→黑孔→压干膜→曝光→显影、去干膜→化学清洗→再压干膜→再曝光→再显影、再去干膜→再化学清洗,其特征在于:

线路蚀刻步骤设置在显影步骤与去干膜步骤之间,将压干膜、显影后的覆铜板与蚀刻液接触,在其表面蚀刻出线路图形;

图形电镀步骤设置在再显影步骤与再去干膜步骤之间,将再压干膜、再显影后的覆铜板与电镀液接触,在没有干膜覆盖的需焊接部位包括导通孔及其孔盘表面镀覆铜层,而已再压贴干膜的可屈曲部位即线路图形表面未镀覆铜层;

所述再压干膜是,将干膜再压贴在蚀刻有线路图形的覆铜板的表面,干膜是厚度是30μm的耐电镀液腐蚀的紫外光敏高分子薄膜。

2.根据权利要求1所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述图形电镀所镀覆的铜层厚度为15μm~25μm,电镀电流密度为1.6A/dm2~2.6A/dm2,电镀时间在2小时之内。

3.根据权利要求1或2所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述干膜是光敏高分子薄膜。

4.根据权利要求3所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述光敏高分子薄膜是耐电镀液腐蚀的紫外光敏高分子薄膜,其厚度是20μm~50μm,大于孔盘的高度。

5.根据权利要求4所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述黑孔是,在覆铜板的通孔内壁表面粘附导电碳粉层。

6.根据权利要求5所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述压干膜是,将干膜压贴在覆铜板的表面;

所述再压干膜是,将干膜再压贴在蚀刻有线路图形的覆铜板的表面。

7.根据权利要求6所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述曝光、再曝光是,用紫外光照射覆铜板表面的紫外光敏高分子薄膜,使其中的部分官能团在光引发剂的作用下发生聚合反应,形成结构致密、分子链更长的高分子。

8.根据权利要求7所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述显影、再显影是,在显影液中将未发生聚合反应形成结构致密、分子链更长的高分子的紫外光敏高分子薄膜从覆铜板表面溶化除去。

9.根据权利要求8所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述去干膜、再去干膜是,在氢氧化钠去干膜液中将已发生聚合反应形成结构致密、分子链更长的高分子的紫外光敏高分子薄膜从覆铜板表面溶化除去。

10.根据权利要求9所述的用于双面及多层柔性印刷线路板的图形电镀方法,其特征在于:

所述化学清洗、再化学清洗是,用硫酸、双氧水、去离子水配制的化学清洗液清洗覆铜板表面的油污及杂质。

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