[发明专利]不受自动生成的虚设形状影响的电路元件功能匹配

权利要求书

1.一种形成集成电路的一部分的方法，所述方法包括以下步骤：

提供虚设形状图案，所述虚设形状图案中的虚设形状之间具有X间距 和Y间距；

允许将多个相同的电路元件放置在衬底上，所述电路元件间隔所述X 间距和所述Y间距中的至少一个间距的整数倍；以及

生成所述电路元件和所述电路元件之间的所述虚设形状图案以提供 与每个所述电路元件相邻的基本相似的虚设形状。

2.如权利要求1中所述的方法，其中所述生成步骤包括生成间隔所 述X间距和所述Y间距两者的整数倍的所述电路元件。

3.一种形成集成电路的一部分的方法，所述方法包括以下步骤：

提供虚设形状图案，所述虚设形状图案中的虚设形状之间具有X间距 和Y间距，其中所述虚设形状图案具有图案X间距和图案Y间距；

允许将多个相同的电路元件放置在衬底上，所述电路元件间隔所述图 案X间距和所述图案Y间距中的一个间距的整数倍；以及

生成所述电路元件和所述电路元件之间的所述虚设形状图案以提供 与每个所述电路元件相邻的基本相同的虚设形状。

4.如权利要求3中所述的方法，其中所述生成步骤包括生成间隔所 述图案X间距和所述图案Y间距两者的整数倍的所述电路元件以提供与每 个所述电路元件相邻的基本相同的虚设形状。

5.一种集成电路，所述集成电路包括：

衬底上的虚设形状图案，所述虚设形状图案中的虚设形状之间具有X 间距和Y间距；以及

所述衬底上的多个相同的电路元件，所述电路元件间隔所述X间距和 所述Y间距中的至少一个间距的整数倍，使得基本相似的虚设形状与每个 所述电路元件相邻。

6.如权利要求5中所述的集成电路，其中所述电路元件间隔所述X 间距和所述Y间距两者的整数倍。

7.一种集成电路，所述集成电路包括：

衬底上的虚设形状图案，所述虚设形状图案中的虚设形状之间具有X 间距和Y间距，其中所述虚设形状图案具有图案X间距和图案Y间距；以 及

所述衬底上的多个相同的电路元件，所述电路元件间隔所述图案X间 距和所述图案Y间距中的一个间距的整数倍，使得基本相同的虚设形状与 每个所述电路元件相邻。

8.如权利要求7中所述的集成电路，其中所述电路元件间隔所述图 案X间距和所述图案Y间距两者的整数倍，以提供与每个所述电路元件相 邻的基本相同的虚设形状。

9.一种用于设计集成电路的设备，所述设备使用多个相同的电路元 件来设计集成电路，包括：

获取装置，用于获取集成电路设计的虚设形状图案中的虚设形状的X 间距和Y间距；以及

放置装置，用于将所述多个相同的电路元件放置为间隔所述虚设形状 的所述X间距和所述Y间距中的至少一个间距的整数倍，以提供与每个所 述电路元件相邻的基本相似的虚设形状。

10.如权利要求9中所述的设备，还包括用于自动生成在所述电路元 件之间具有所述X间距和所述Y间距的所述虚设形状的装置。

11.如权利要求9中所述的设备，其中所述放置装置将所述电路元件 放置为间隔所述X间距和所述Y间距两者的整数倍。

12.一种用于设计集成电路的设备，所述设备使用多个相同的电路元 件来设计集成电路，包括：

获取装置，用于获取集成电路设计的虚设形状图案中的虚设形状的X 间距和Y间距，其中所述虚设形状图案具有图案X间距和图案Y间距；以 及

放置装置，用于将所述多个相同的电路元件放置为间隔所述图案X间 距和所述图案Y间距中的一个间距的整数倍，以提供与每个所述电路元件 相邻的基本相同的虚设形状。

13.如权利要求12中所述的设备，其中所述放置装置将所述电路元 件放置为间隔所述图案X间距和所述图案Y间距两者的整数倍，以提供与 每个所述电路元件相邻的基本相同的虚设形状。