[发明专利]头皮和毛发处理组合物及方法

权利要求书

1.头皮和/或毛发处理组合物，包括薄荷醇衍生物和15位具有两个杂原子的前列腺素化合物。

2.如权利要求1所述的组合物，其中前列腺素化合物是由以下式(I)表示的化合物

其中L、M和N为氢、羟基、卤素、低级烷基、羟基(低级)烷基、低级烷酰氧基或氧代，其中L和M至少有一个为氢之外的基团，且五元环至少可以有一个双键；

A为-CH₃或-CH₂OH、-COCH₂OH、-COOH或其功能性的衍生物；

B为-CH₂-CH₂-、-CH＝CH-或-C≡C-；

Z₁和Z₂为氧、氮或硫；

R₂和R₃为任选取代的低级烷基，其任选地连接在一起以形成低级亚烷基，

R₁为饱和或不饱和的二价低级或中级脂肪族烃残基，其为未取代的或被卤素、烷基、羟基、氧代、芳基或杂环团取代，且脂肪族烃中的至少一个碳原子任选地被氧、氮或硫取代；和

Ra为饱和或不饱和的低级或中级脂肪族烃残基，其为未取代的或被卤素、氧代、羟基、低级烷氧基、低级烷酰氧基、环(低级)烷基、环(低级)烷基氧基、芳基、芳氧基、杂环基或杂环氧基取代；低级烷氧基；低级烷酰氧基；环(低级)烷基；环(低级)烷基氧基；芳基；芳氧基；杂环基；杂环氧基。

3.如权利要求2所述的组合物，其中前列腺素化合物由式(II)表示：

其中L、M、A、B、Z₁、Z₂、R₁、R₂、R₃同权利要求2，

X₁和X₂为氢、低级烷基或卤素；

R₄为单键或低级烯基；和

R₅为低级烷基、低级烷氧基、低级烷酰氧基、环(低级)烷基、环(低级)烷基氧基、芳基、芳氧基、杂环基或杂环氧基。

4.如权利要求1所述的化合物，其中所述前列腺素化合物是13，14-二氢-15，15-亚乙二氧基-前列腺素化合物。

5.如权利要求1所述的化合物，其中所述前列腺素化合物是13，14-二氢-15，15-亚乙二氧基-20-乙基-前列腺素化合物。

6.如权利要求1所述的化合物，其中所述前列腺素化合物是13，14-二氢-15，15-亚乙二氧基-20-乙基-PGF_2α异丙酯。

7.如权利要求1所述的化合物，其中所述前列腺素化合物是13，14-二氢-15，15-亚乙二氧基-17-苯基-18，19，20-三去甲-PGF_2α异丙酯。

8.如权利要求1所述的化合物，其中所述前列腺素化合物是13，14-二氢-15，15-三亚甲二氧基-20-乙基-PGF_2α异丙酯。

9.如权利要求1所述的化合物，其中所述前列腺素化合物是13，14-二氢-15，15-二甲氧基-20-乙基-PGF_2α异丙酯。

10.如权利要求1所述的化合物，其中所述前列腺素化合物和13，14-二氢-15，15-亚乙二氧基-20-乙基-PGF_2α乙酯。

11.如权利要求1-10任一项所述的组合物，其中基于组合物的总重量该组合物包括的前列腺素化合物的量为0.0001-10wt％(干重)和薄荷醇衍生物的量为0.001-5.0wt％(干重)。