[发明专利]聚合物及其制备方法、光学薄膜和图象显示器无效
申请号: | 200580039941.5 | 申请日: | 2005-09-22 |
公开(公告)号: | CN101068853A | 公开(公告)日: | 2007-11-07 |
发明(设计)人: | 相木康弘;石塚孝宏 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C08G73/22 | 分类号: | C08G73/22;H05K1/03;G03F7/023;C09D179/08;G03F7/039 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 于辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚合物 及其 制备 方法 光学薄膜 图象 显示器 | ||
1、一种具有下式(1)的重复单元的聚合物:
式(1)
其中X代表下式(2)的二价连接基团;和Y代表亚甲基、亚乙基或亚乙烯基:
式(2)
其中R1和R2各自独立地代表选自卤原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、和取代或未取代的芳基中的至少一种;并且m和n各自独立地代表0-4的整数。
2、如权利要求1所述的聚合物,它的玻璃化温度不低于350℃。
3、如权利要求1或2所述的聚合物,它的重均分子量为20,000-500,000。
4、如权利要求1-3任一项所述的聚合物,其中式(1)中的Y是亚甲基。
5、如权利要求1-3任一项所述的聚合物,其中式(1)中的Y是亚乙基。
6、如权利要求1-3任一项所述的聚合物,其中式(1)中的Y是亚乙烯基。
7、如权利要求1-6任一项所述的聚合物,其中式(2)中的R1和R2各自独立地是卤原子、或者取代或未取代的烷基。
8、如权利要求1-7任一项所述的聚合物,其中式(2)中的m和n各自独立地是1或2。
9、如权利要求1-8任一项所述的聚合物,其中式(1)的重复单元的摩尔百分数是50-100mol%。
10、如权利要求1-8任一项所述的聚合物,它仅包含式(1)的重复单元。
11、具有下式(1)的重复单元的聚合物的制备方法,包括将四羧酸或其衍生物与二氨基联苯衍生物缩合:
式(1)
其中X代表下式(2)的二价连接基团;并且Y代表亚甲基、亚乙基或亚乙烯基:
式(2)
其中R1和R2各自独立地代表选自卤原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、和取代或未取代的芳基中的至少一种;并且m和n各自独立地代表0-4的整数。
12、如权利要求11所述的制备方法,其中所述缩合反应是在亚磷酸三苯酯的存在下于有机极性溶剂中进行的。
13、一种光学薄膜,其包含具有下式(1)的重复单元的聚合物:
式(1)
其中X代表下式(2)的二价连接基团;并且Y代表亚甲基、亚乙基或亚乙烯基:
式(2)
其中R1和R2各自独立地代表选自卤原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、和取代或未取代的芳基中的至少一种;并且m和n各自独立地代表0-4的整数。
14、如权利要求13所述的光学薄膜,其中所述聚合物的玻璃化温度不低于350℃。
15、如权利要求13或14所述的光学薄膜,当该薄膜的厚度为50μm时,其在420nm的波长下的透光率是至少80%。
16、如权利要求13-15任一项所述的光学薄膜,其经过拉伸。
17、一种具有阻气层的光学薄膜,其中所述阻气层形成在权利要求13-16任一项的光学薄膜上。
18、一种具有透明导电层的光学薄膜,其中所述透明导电层形成在权利要求13-17任一项的光学薄膜上。
19、一种图象显示装置,其包含权利要求13-18任一项的光学薄膜。
20、如权利要求19所述的图象显示装置,它是有机电致发光(EL)装置。
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