[发明专利]大型护罩的收纳方法无效
申请号: | 200480044532.X | 申请日: | 2004-12-02 |
公开(公告)号: | CN101073033A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | 栗山芳真;脇元一郎 | 申请(专利权)人: | 旭化成电子材料元件株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;B65D85/86 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 大型 护罩 收纳 方法 | ||
技术领域
本发明涉及大型护罩(ペリクル)的收纳方法及其收纳结构体,所述收纳方法可以将护罩膜的面积在1000cm2以上的大型护罩以稳定的状态收纳在由托盘和盖子构成的箱体中,所述大型护罩用于防止在制造构成LSI、液晶显示器(LCD)的薄膜晶体管(TFT)和滤色器(CF)等时的光刻工序中所使用的光掩模或标线片上附着异物。
背景技术
在以往制造半导体电路图案等过程中,正如在后述专利文献1中记载的那样,通常采用称为护罩的防尘措施来防止异物附着在光掩模或标线片上。护罩的结构如下:在具有与光掩模或标线片的形状相匹配的形状的数微米厚的框架的上缘面上铺展并粘合有厚度为10μm以下的硝化纤维素或纤维素衍生物或者含氟聚合物等透明高分子膜(以下称为护罩膜),并且,在该框架的下缘面涂有粘结材料,并在该粘结材料上以规定的粘合力粘附有保护膜。
上述粘结材料用于将护罩固着在光掩模或标线片上,而且,为了使该粘结材料的粘合力能够保持到该粘结材料用于这一用途,使用保护膜来保护该粘结材料的粘合面。在将该护罩从制造者运送至使用者的过程中,为了防止异物附着在护罩膜等上或者防止护罩损伤,通常将该护罩收纳在由托盘和盖子构成的箱体中,进而将该箱体装在防尘袋等中进行运送。
将作为本发明的对象的面积在1000cm2以上的大型护罩收纳起来的由托盘和盖子构成的箱体通常采用真空成型法成型,并且,过去通过在将大型护罩放置在托盘上后盖上盖子来将大型护罩收纳在箱体中。在制造上述箱体时,要有计划地设计制造,以使收纳在箱体内的大型护罩的框架与盖子之间的间隔在0mm以上且小于1mm,在该间隔部分,盖子压住大型护罩,从而防止了运输中等的振动导致大型护罩在箱体内移动而产生摩擦或灰尘。
可是,对于收纳面积在1000cm2以上的护罩的大型箱体,存在如下问题。即,在大型箱体中,由于存在护罩和箱体的间隙问题,或者存在箱体难以满足平整性的要求等问题,导致大型护罩的四周与箱体的盖子之间的间隔不能准确地控制在0mm以上且小于1mm的范围,因此,在维持满足现有设计思想的成型精度的条件下,难以制造出大型箱体。
因此,在将大型护罩收纳在以现有设计思想制造的大型箱体中时,在大型护罩与盖子间的间隔为0mm以致盖子与大型护罩接触时,盖子压住大型护罩的框架,因而在运送大型护罩时等,在盖子和大型护罩的框架之间产生摩擦而出现灰尘,从而产生异物附着在大型护罩上的问题。
另外,在大型护罩与盖子间的间隔为1mm以上时,不能用盖子压住大型护罩使之保持稳定,因而在运送大型护罩时,大型护罩在箱体内出现移动或振动,导致在箱体和大型护罩之间产生摩擦而出现灰尘,从而产生异物附着在大型护罩上的问题。
为了解决上述诸多问题,本申请的申请人已经完成了如后述的专利文献2、专利文献3或专利文献4所述的发明,提出了专利申请。
后述专利文献2中记载的技术是:在收纳护罩的箱体的托盘表面上突出设置立起的突出部,并且,在该突出部的侧面设有底切部,通过将护罩的保护膜插入该底切部之中来保持固定置于托盘上的护罩。另外,专利文献3中记载的技术是:先将具有规定粘合力的粘结材料涂在护罩的保护膜下表面,在将护罩放置在托盘上时,通过将保护膜粘合在托盘上来将护罩保持固定在托盘上。此外,专利文献4中记载的技术是:由箱体盖子的顶面悬挂棒状的挤压体,在将这种盖子盖在托盘上时,用该挤压体从上方压住放置在托盘上的护罩的保护膜,由此将护罩保持固定在托盘上。
专利文献1:特公昭54-28718号公报
专利文献2:特开平11-38597号公报
专利文献3:特开平11-24238号公报
专利文献4:特开平11-52553号公报
发明内容
记载于上述专利文献2~专利文献4的发明对收纳过去常用的5英寸或6英寸这种用于半导体的护罩的箱体是极为有效的,但是,在对收纳作为本发明对象的护罩的面积在1000cm2以上的大型护罩的箱体应用这些发明时,存在后述的若干问题。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成电子材料元件株式会社,未经旭化成电子材料元件株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200480044532.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备