[发明专利]大型护罩的收纳方法无效
| 申请号： | 200480044532.X | 申请日： | 2004-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN101073033A | 公开（公告）日： | 2007-11-14 |
| 发明（设计）人： | 栗山芳真;脇元一郎 | 申请（专利权）人： | 旭化成电子材料元件株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;B65D85/86 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 大型 护罩 收纳 方法 | ||
1.一种大型护罩的收纳方法，该方法包括将面积在1000cm2以上的大型护罩收纳在由托盘和盖子构成的箱体中的过程，所述大型护罩包括框架、粘合在该框架的上缘面上的护罩膜、涂在该框架的下缘面上的粘结材料以及用于保护该粘结材料而粘附在该框架的下面的保护膜，所述收纳方法的特征在于，所述大型护罩的保护膜的外周缘的一部分或全部向外侧突出并形成余边，并且，利用胶带将该余边固定在所述托盘上，由此将大型护罩收纳在所述箱体内。
2.根据权利要求1所述的大型护罩的收纳方法，其中，形成的所述保护膜的余边的宽度为6mm以上且长度为20mm以上。
3.根据权利要求1或2所述的大型护罩的收纳方法，其中，放置在所述箱体的托盘上的大型护罩的框架与盖在所述托盘上的盖子之间设置至少1mm以上的间隔来收纳所述大型护罩。
4.一种大型护罩收纳结构体，该结构体是在由托盘和盖子构成的箱体中收纳有面积在1000cm2以上的大型护罩的结构体，所述大型护罩包括框架、粘合在该框架的上缘面上的护罩膜、涂在该框架的下缘面上的粘结材料以及用于保护该粘结材料而粘附在该框架的下面的保护膜，在所述大型护罩收纳结构体中，所述大型护罩的保护膜的外周缘的一部分或全部具有向外侧突出的余边，并且，利用胶带将该余边固定在所述托盘上。
5.根据权利要求4所述的大型护罩收纳结构体，其中，所述保护膜的余边的宽度为6mm以上且长度为20mm以上。
6.根据权利要求4或5所述的大型护罩收纳结构体，其中，放置在所述箱体的托盘上的大型护罩的框架和盖在所述托盘上的盖子之间具有至少1mm以上的间隔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成电子材料元件株式会社，未经旭化成电子材料元件株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200480044532.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
