[发明专利]功率半导体器件及制造方法有效

专利信息
申请号: 200480042161.1 申请日: 2004-12-28
公开(公告)号: CN101180737A 公开(公告)日: 2008-05-14
发明(设计)人: 阿肖克·沙拉;艾伦·埃尔班霍威;克里斯托弗·B·科康;史蒂文·P·萨普;彼得·H·威尔逊;巴巴克·S·萨尼 申请(专利权)人: 飞兆半导体公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余刚;尚志峰
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 功率 半导体器件 制造 方法
【说明书】:

相关申请的交叉参考

本申请为下列共同转让的美国专利申请的部分延续:

Mo等人的第10/155,554号(代理案号18865-17-2/17732-7226.001),标题为“Field Effect Transistor andMethods of its Manufacture”,2002年5月24日;

Sapp的第No.10,209,110号(代理案号18865-98/17732-55270),标题为“Dual Trench Power MOSFET”,2002年7月30日;

Kocon的第09/981,583号(代理案号18865-90/17732-51620),标题为“Semiconductor Structure with Improved Smaller Forward Lossand Higher Blocking Capability”,2001年10月17日;

Kocon等人的第10/640,742号(代理案号90065.000241/17732-66550),标题为“Improved MOS Gating Methodfor Reduced Miller Capacitance and Switching Losses”,2003年8月14日;

Marchant的第09/774,780号(代理案号18865-69/17732-26400),标题为“Field Effect Transistor Having aLateral Depletion Structure”,2001年1月30日;

Sapp等人的第10/200,056号(代理案号18865-97/17732-55280),标题为“Vertical Change ControlSemiconductor Device with Low Output Capacitance”,2002年7月18日;

Kocon等人的第10/288,982号(代理案号18865-117/17732-66560),标题为“Drift Region Higher BlockingLower Forward Voltage Drop Semiconductor Structure”,2002年11月5日;

Herrick的第10/442,670号(代理案号18865-131/17732-66850),标题为“Structure and Method for Forming a Trench MOSFET HavingSelf-Aligned Features”,2003年5月20日;

Yedinak的第10/315,719号(代理案号90065.051802/17732-56400),标题为“Method of Isolating the CurrentSense on P1anar or Trench Stripe Power Devices while Maintaining aContinuous Stripe Cell”,2002年12月10日;

Elbanhawy的第10/222,481号(代理案号18865-91-1/17732-51430),标题为“Methods and Circuit for ReducingLosses in DC-DC Converters”,2002年8月16日;

Joshi的第10/235,249号(代理案号18865-71-1/17732-26390-3),标题为“Unmolded Package for a Semiconductor device”,2002年9月4日;以及

Joshi等人的第10/607,633号(代理案号18865-42-1/17732-13420)标题为“Flip Chip in Leaded MoldedPackage and Method of Manufacture Thereof”,2003年6月27日;

并且要求下列临时提交的美国专利申请的优先权:

Wilson等人的第60/506,194号(代理案号18865-135/17732-66940),标题为“High Voltage Shielded Trench GateLDMOS”,2003年9月26日;以及

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