[实用新型]晶圆研磨定位环

说明书

技术领域

本实用新型涉及晶圆研磨定位环，尤指一种定位环下缘设有若干个废物槽的晶圆研磨定位环。

背景技术

本实用新型是在台湾专利第90219987号与第90219986号《晶圆研磨定位环构造改良))的基础上，经进一步改进后，作出的后续专利申请案。

参见图1-3、分别为台湾专利第90219987号的立体图、反面示意图及另一废物槽的局部示意图。本案的晶圆研磨定位环的环体2下缘设有若干条废物槽7，是利用环体2旋转时的离心力摔出研磨所产生的废物；该废物槽7贯穿于环体2外周缘9与内周缘8之间，向旋转离心力作用线方向倾斜，与作用线方向越一致效果越佳(如图3所示)，并且以等距离设置为更佳。

参见图4、为台湾专利第90219986号的立体图。本案的晶圆研磨定位环的环体2构造与上一专利案基本相同，不同在于：环体2下缘的若干个凹入环体的废物槽7，是接近于环体2内周缘8的内端，为封闭的弧形端10，该弧形端10两端沿晶圆研磨定位环旋转所产生的离心力方向，渐趋扩展延伸至外周缘9止，形成呈斜锥状外端开口的凹槽，用以利用晶圆研磨定位环旋转时的离心力摔出研磨所产生的废物。

参见图5，为台湾专利第90219986号的另一实施例，本案的晶圆研磨定位环的环体2下缘设有若个废物槽7，是配合晶圆研磨定位环旋转时的离心力方向设置的其他形状的斜锥状凹槽，同样可达到相同的效果。

上述二案定位环旋转的速度高，摔出废物的速度因过高而溅起，造成周围设备的污染。

发明内容

本实用新型的主要目的，是要提供一种将上述晶圆研磨定位环结构作更进一步的改进，在环体下缘设有若干个适当形状的废物槽，以降低摔出废物的速度，避免速度过高溅起，而对周围设备造成的污染。

本实用新型的技术方案：一种晶圆研磨定位环，包括：一环体，为圆环体，由具有极佳承载性、耐磨性及耐腐蚀性的晶状塑胶一体成形，其内径与所套合且同轴旋转的待研磨晶圆的外径相配合；其环体周壁顶缘设有同体适当宽度与高度的环形凸缘，在环形凸缘上设有复数个等距离环形排列的凹孔；复数个螺护套与凹孔相配合并压嵌在凹孔内定位；若干出水孔设于环体内周壁，并贯穿环体周壁向外排水；该环体下缘设有若干凹入环体的废物槽；其特征在于：该废物槽为内、外两端开口，呈斜锥状凹槽。

其中：所述环体下缘的若干个废物槽，为开放式三角形的斜锥状凹槽。

所述环体下缘的若干个废物槽，为两侧呈弧形壁的凹槽。

所述环体下缘的若干个废物槽，为两侧斜直壁的正锥形凹槽。

所述环体下缘的若干个废物槽一侧为斜直壁，另一侧为弧形壁的凹槽。

所述环体下缘的若干个废物槽一侧为弧形壁，另一侧为斜直壁的凹槽。

本实用新型的有益效果：由于充分利用各种适当形状的废物槽及研磨定位环旋转时的离心力，可降低研磨所产生废物的摔出速度，则避免了因速度过高所溅起的废物对周围设备的污染，并可充分利用若干各种适当形状的废物槽及研磨定位环旋转时的离心力，降低摔出研磨废物的速度。

附图说明

图1、为台湾专利第90219987号的立体图。

图2、为图1的反面立体图。

图3、为第90219987号另一废物槽的局部示意图。

图4、为台湾专利第90219986号的立体图。

图5、为第90219986号另一废物槽的局部示意图。

图6、为本实用新型的反面立体图。

图7-10、为本实用新型各实施例废物槽的局部示意图。

具体实施方式

参见图1、6、为本实用新型实施例1：一种晶圆研磨定位环1，其基本结构与第90219987号相同，即包括：一环体2，为正圆形无端环，由极佳的承载性及耐磨性与耐化学品腐蚀性的晶状塑胶一体成型，内径配合待研磨晶圆的外径，用以套合待研磨晶圆，并带动晶圆同心轴旋转；前述环体2外周壁顶缘设有同体适当宽度与高度的环形凸缘4，环形凸缘4上设有复数个等距离环形排列的凹孔5，用以分别压嵌入相配合的螺护套6；该螺护套6配合前述环形凸缘4上的复数个凹孔5数量，用以分别压嵌入凹孔5内定位；一出水孔3有复数个，设于环体2内周壁8上，并贯穿内外周壁8、9用以出水。