[发明专利]测量光罩布局修正所引起桥接的方法与装置

权利要求书

1.一种可以测量基极与接触间桥接的装置，其特征在于，至少包含：

一基极，该基极位于一底材上；

一介电质层，该介电质层覆盖该底材与该基极；

多个接触，这些接触是位于该介电质层内并与该底材接触，这些接触是相互分离并至少围绕部份该基极：以及

一导体层，该导体层位于该介电质层上，并且该导体层电性耦接这些接触。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，该基极是电性偶接到一电源。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，该导体层是电性耦接到一检测器，该检测器是用以检测自该基极经由与该基极桥接的至少一该接触流至该导体层的信号，藉以判断该基极是否与这些接触发生桥接。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，这些接触是沿该基极的边缘排列。

5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，至少一该接触邻近该基极的一端。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，当该基极被这些接触围绕的一端是沿一轴线沿伸时，至少一该接触是位于该轴线上但不与该基极接触。

7.如权利要求1所述的装置，其特征在于，该基极与这些接触的配置方式是取决于经光学邻近修正法修正的一光罩的布局。

8.一种可用以测量光罩布局修正所引发的基极图案变形的光罩布局，其特征在于，至少包含：

一导线图案：

多个基极图案，这些基极图案是相互分离并且皆连接至该导线图案；和

多个接触图案组，这些接触图案组是相互分离并且任一该接触图案组不与这些基极图案接触，任一该接触图案组皆对应到一该基极图案并至少包含：

多个接触图案，这些接触图案是相互分离并且至少围绕相对应的一该基极图案不与该导线图案接触的一侧。

9.如权利要求8所述的布局，其特征在于，任一该基极图案皆与其它基极图案的轮廓相似。

10.如权利要求9所述的布局，其特征在于，任一该接触图案组的这些接触图案的分布方式皆与其它接触图案组的接触图案的分布方式相似。

11.如权利要求9所述的布局，其特征在于，任一该接触图案组的这些接触图案与相对应的某一该基极图案间的距离皆与其它接触图案组的接触图案与相对应的某一该基极图案间的距离不相同。

12.如权利要求8所述的布局，其特征在于，当任一该接触图案组相对应的一该基极图案被该接触图案组所围绕的一端是沿一轴线延伸时，至少一该接触图案是位于该轴线上但不与该基极图案接触。

13.如权利要求8所述的布局，其特征在于，任一该接触图案组皆至少有一该接触图案是邻近相对应的一该基极图案未与该导线图案接触的一端。

14.如权利要求13所述的布局，其特征在于，任一该接触图案组的邻近相对应一该基极图案未与该导线图案接触一端的一该接触图案与该基极图案间的距离是与其它这些接触图案组的邻近相对应一该基极图案未与该导线图案接触一端的一该接触图案与该基极间的距离不相同。

15.一种测量光罩布局修正所引起的桥接的方法，其特征在于，至少包含：

提供一光罩，该光罩具有一布局，该布局至少包含：

一导线图案；

多个基极图案，任一该基极图案是连接至该导线图案并与其它这些基极图案相分离；和

多个接触图案组，任一该接触图案组皆对应到一该基极图案并与该基极图案相互分离，任一该接触图案组至少包含多个接触图案并至少围绕相对应的一该基极图案的未与该导线图案相连接的一端；

修正该布局；

将修正后的该布局转移至一底材，而在该底材上形成一导线、多个基极与多个接触组；

电性耦接这些接触组至一终端；以及

施加一电信号于该导线并测量有无该电信号出现于该终端。

16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，先以一介电质层覆盖该底材与这些基极但让这些接触组未被该介电质层覆盖，然后形成一导体层在该介电质层上并与这些接触组相接触，藉以电性耦接这些接触组至该终端。