[发明专利]测量集成半导体组件在高温时的可靠性的装置和方法无效
| 申请号: | 02126463.5 | 申请日: | 2002-07-22 |
| 公开(公告)号: | CN1399323A | 公开(公告)日: | 2003-02-26 |
| 发明(设计)人: | W·阿萨姆;J·发泽卡斯;A·马丁;D·斯米特斯;J·冯哈根 | 申请(专利权)人: | 因芬尼昂技术股份公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/28 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郑立柱,张志醒 |
| 地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 测量 集成 半导体 组件 高温 可靠性 装置 方法 | ||
1.测量集成半导体组件可靠性的装置,具有
一个载体基质(1)用于接受集成半导体组件(HBE);
一个加热元件(HE)用于加热半导体组件(HBE);和
一个温度传感器(TS)用于测量半导体组件(HBE)的温度
其特征为,
温度传感器有至少部分的半导体组件(HBE)的一个寄生的功能元件。
3.按照专利权利要求1的装置,
其特征为,
寄生的功能元件是半导体组件(HBE)的寄生的双极性晶体管。
4.按照专利权利要求1的装置,
其特征为,
寄生的功能元件是半导体组件(HBE)的寄生的肖特基-或MOS-二极管。
5.按照专利权利要求1至4之一的装置,
其特征为,
半导体组件(HBE)有一个电阻、一个电容、一个电感、一个二极管、一个场效应晶体管、一个双极性晶体管和/或一个晶闸管。
6.按照专利权利要求1至5之一的装置,
其特征为,
将加热元件(HE)直接埋在载体基质(1)中的半导体组件(HBE)的附近。
7.按照专利权利要求1至6之一的装置,
其特征为,
为了温度传感器的寄生的部分-功能元件的完整性安排了一个附加的功能元件(K3,8)。
8.按照专利权利要求7的装置,
其特征为,
附加的功能元件有至少一个掺杂区(8)和/或一个连接(K3)。
9.按照专利权利要求1至8之一的装置,
其特征为,
寄生的功能元件直接位于半导体组件(HBE)相关的区域附近。
10.测量集成半导体组件可靠性的方法,具有以下步骤:
a) 进行一种测量方法借助于温度传感器(TS)测量通过加热元件(HE)引起的和在半导体组件(HBE)上真正加上的温度,温度传感器有至少部分的半导体组件(HBE)的寄生的功能元件;
b) 进行一种应激反应方法至少依赖于加热元件(HE)的温度给半导体组件(HBE)加负荷;
c) 至少依赖于加上的温度计算半导体组件的损坏时间点。
11.按照专利权利要求10的方法,
其特征为,
此外当加负荷时在半导体组件(HBE)中的应激反应电流密度和/或应激反应电压变化和当计算时应该考虑进去。
12.按照专利权利要求10或11的方法,
其特征为,
在步骤a)中将非常小的测量电流馈入温度传感器(TS)。
13.按照专利权利要求10至12之一的方法,
其特征为,
在步骤a)中将加在半导体组件(HBE)上的实际温度从寄生的功能元件的I/U-特性曲线或C/U-特性曲线中推导出来。
14.按照专利权利要求10至13之一的方法,
其特征为,
将步骤a)和步骤b)在时间上相互分开进行。
15.按照专利权利要求14的方法,
其特征为,
在步骤a)中进行加热元件(HE)的校准;和在步骤b)中依赖于被校准的加热元件进行半导体组件(HBE)的加负荷。
16.按照专利权利要求10至13之一的方法,
其特征为,
将步骤a)和步骤b)同时进行。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于因芬尼昂技术股份公司,未经因芬尼昂技术股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02126463.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





