[发明专利]用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法无效

专利信息
申请号: 02115421.X 申请日: 2002-01-11
公开(公告)号: CN1362328A 公开(公告)日: 2002-08-07
发明(设计)人: 栾德海;江畅;陈德超;褚峰林 申请(专利权)人: 中包云梦塑料薄膜厂
主分类号: B32B27/32 分类号: B32B27/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 432500 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 用于 镭射 压印 转移 双向 拉伸 聚丙烯 及其 制造 方法
【说明书】:

所属技术领域

发明涉及一种新型用途的聚丙烯基膜及其制造方法,特别是用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法。利用此种基膜可以加工出具有镭射效果的产品,并通过镭射转移,从而达到对被包装商品装饰、装璜或防伪效果。

背景技术

目前,公知的用于生产镭射压印蒸镀制品的转移基膜是由聚脂塑料(PET)、聚乙烯(PE)等非PP(均聚聚丙烯)原料生产的基膜。利用此类基膜进行压印蒸镀和镭射转移,最终可以达到对被包装商品的装饰、装璜或者防伪功效。但是,此类基膜生产所用原材料价格贵、设备性能要求高,生产成本高,并且由于其后期加工成本较高,而且受生产规模的影响,一般用户不可能直接对其进行压印加工。这样,为下游用户降低产品成本、拓宽产品应用领域带来了不可克服的缺陷。

发明内容:

本发明的目的是,针对现有的镭射转移基膜生产所用的原料、生产和后期加工成本较高的不足,进行改进,提出并设计用于镭射压印转移的双向拉伸的聚丙烯基膜及其制造方法。从而为下游用户降低产品成本,拓宽了产品应用领域,本发明的基膜不仅能满足下游用户对产品的使用质量要求(如有很好的压印亮度),而且还会降低产品的成本。

本发明的解决技术方案是,基膜由上表层、芯层、下表层构成,上表层、芯层、下表层通过热熔共挤成为一体,芯层位于上表层、下表层之间,其中下表层为转移层。

上表层、下表层的厚度分别为基膜厚度的10%-12%。

生产基膜的上表层、芯层、下表层的原辅材料的组份按如下比例混合配制:

上表层:

        二元共聚聚丙烯65%;

        三元共聚聚丙烯29%-31%;

        防粘剂4-6%

芯层:

        均聚聚丙烯99.5-99.8%;

        脱模剂0.2-0.5%;

下表层:

        均聚聚丙烯99.2-99.5%;

        脱模剂0.5-0.8%。

本发明的制造工艺,工艺流程为:

首先经原辅料选型,再将原辅材料按配方配比混合,拌合均匀,将拌合均匀的原辅材料送入挤出机塑化成熔体,熔体通过管道,经模头、铸片装置,共挤成厚片,厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜,薄膜的厚度采用自动测厚装置调节,达到规定厚度的薄膜经电晕处理以增强薄膜表面张力,再将经电晕处理后的薄膜牵引成大卷膜,再将大卷膜送入时效处理装置,然后经过分切制成基膜成品。

在拉伸工序中,制作基膜的厚片可以根椐生产设备的条件,选用两步拉伸或同步拉伸。

本发明有的优点是,由于该基膜所用原材料主要为均聚聚丙烯,该原材料的市场价格比其它同类用途的基膜生产原材料低,双向拉伸工艺生产效率高,生产成本低,且用户可用此种基膜直接进行压印蒸镀加工,因此,可以满足用户所要求的镭射效果、蒸镀效果和转移效果,同时大大降低了产品的成本。

附图说明

图1是本发明生产的基膜断面结构图。

图2是本发明的基膜生产工艺流程图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

如图1所示,本发明的基膜由上表层1、芯层2、下表层3构成,上表层1、芯层2、下表层3通过设备热熔、共挤形成整体,芯层2位于上表层1、下表层3之间,其中下表层3为转移层,上表层1、下表层3的厚度分别为基膜厚度的10%-12%。

构成上述基膜的上表层1、芯层2、下表层3的原辅材料的组份按如下比例配比:

上表层1:      二元共聚聚丙烯65%,

               三元共聚聚丙烯29-31%

               防粘剂4-6%

芯层2:        均聚聚丙烯99.5-99.8%

               脱模剂0.2-0.5%

下表层3:      均聚聚丙烯99.2-99.5%

               脱模剂0.5-0.8%

其中,均聚聚丙烯的熔融指数为3.2-3.5g/10min,二元共聚聚丙烯的熔融指数为6-8g/10min,三元共聚聚丙烯的熔融指数为7-9g/min,防粘剂可选用AB6072PP或AB6075PP,脱模剂可选用KS-61或YG-44。

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