[发明专利]用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法

权利要求书

1、用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，基膜由上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)构成，上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)通过热熔、共挤成为一体，芯层(2)位于上表层(1)、下表层(2)之间，其中下表层(3)为转移层。

2、根据权利要求1所述的用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，上表层(1)、下表层(3)的厚度分别为基膜厚度的10％-12％。

3、根据权利要求1所述的用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，生产基膜的上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)的原辅材料的组份按如下比例混合配制：

上表层(1)：

        二元共聚聚丙烯65％；

        三元共聚聚丙烯29％-31％；

        防粘剂4-6％；

芯层(2)：

        均聚聚丙烯99.5-99.8％；

        脱模剂0.2-0.5％；

下表层(3)：

        均聚聚丙烯99.2-99.5％；

        脱模剂0.5-0.8％；

4、根据权利要求1所述的用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜的制造方法，其工艺流程为：

首先经原辅料选型，再将原辅材料按配方配比混合，拌合均匀，将拌合均匀的原辅材料送入挤出机塑化成熔体，熔体通过管道，经模头、铸片装置，共挤成厚片，厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜，薄膜的厚度采用自动测厚装置调节，达到规定厚度的薄膜经电晕处理以增强薄膜表面张力，再将经电晕处理后的薄膜牵引成大卷膜，再将大卷膜送入时效处理装置，然后经过分切制成基膜成品。

5、根据权利要求4所述的用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜的制造方法，其特征在于，在拉伸工序中，制作基膜的厚片可以根椐生产设备的条件，选用两步拉伸或同步拉伸。