[发明专利]带自对准的掩膜板无效

专利信息
申请号: 02111916.3 申请日: 2002-06-03
公开(公告)号: CN1381738A 公开(公告)日: 2002-11-27
发明(设计)人: 李以贵;贾书海;王宏坤 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G02B6/136 分类号: G02B6/136;G03F1/08
代理公司: 上海交达专利事务所 代理人: 王锡麟
地址: 200030*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 对准 掩膜板
【说明书】:

技术领域:本发明涉及的是一种掩膜板,特别是一种带自对准的掩膜板,属于微细加工技术领域。

背景技术:近年来,光通讯得到了迅速的发展,并日益得到人们的重视。由于光纤的端面结构与形状在光信号传播过程的重要作用,如可以改变光路的传播方向、与光信号的损失和失真密切相关等,而使得光纤的端面加工受到研究人员的格外重视。经文献检索发现,D.R.Turner在《United State Patent》(美国专利)4,469,554,1984(9)上撰文《Etch procedure for optical fibers》(光纤刻蚀工艺),该文提出湿法分层刻蚀是目前实现光纤端面加工的一种重要方法,它利用分层液体对光纤端面进行加工,分层液体包括上下两层:下层为刻蚀溶液,用于实现对光纤端面的加工;上层为惰性液体,用于保护光纤的其它部分不被下层的刻蚀溶液所刻蚀。采用此方法实现了光纤端面探针形状和锥形形状的加工,可在光纤端面制作出探针和锥形透镜,由于此方法是在刻蚀溶液中对光纤端面进行均匀的各向同性腐蚀,所以加工出的端面形状受到很大的限制,通常此方法只能够加工出探针和锥形的形状和结构,无法实现端面任意形状和结构的加工。

发明内容:本发明针对现有技术的不足和缺陷,提供一种带自对准的掩膜板,通过此掩膜板来实现光纤端面任意形状和结构的直接加工。本发明主要包括:玻璃基板、Au/Cr层、镀镍层和微孔,玻璃基板在最上层,中间为Au/Cr层,下层为镀镍层,玻璃基板、Au/Cr层、镀镍层之间通过胶联或键合连接。微孔本身尺寸和光纤外径尺寸相同,对应于微孔处的中间Au/Cr层上有掩膜图形。

本发明的结构特征在于自对准微孔,微孔位于下层的镀镍层上,微孔本身加工成光纤外径的尺寸,如125微米,在光纤导入微孔后,由于微孔本身尺寸和光纤外径尺寸相同,自动将光纤固定并对准。对应于微孔处的中间Au/Cr层上,制作有要在光纤端面上加工的图形,即掩膜图形,起到掩膜板的作用,可对图形进行转移,即用紫外光辐照方法将掩膜板上的图形转移到光刻胶上,然后以光刻胶作为掩膜通过刻蚀工艺将光刻胶上的图形转换到光纤端面上,其他部分如玻璃基板和镀镍层起支持作用。

本发明具有实质性特点和显著进步,本发明可对光纤端面直接进行加工,解决了光纤端面加工技术难,对准程度低的问题,并可对光纤端面进行任意形状和结构的加工,对研制光纤通信用的器件和含有复杂图形的器件具有特别重要的意义。

附图说明:图1本发明结构示意图

具体实施方式:如图1所示,本发明主要包括:玻璃基板1、Au/Cr层2、镀镍层3和微孔4,玻璃基板1在最上层,中间为Au/Cr层2,下层为镀镍层3,玻璃基板1、Au/Cr层2、镀镍层3之间通过胶联或键合连接,微孔4位于镀镍层3上。

微孔4本身尺寸和光纤外径尺寸相同,对应于微孔4处的中间Au/Cr层2上有掩膜图形。

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