[发明专利]转印膜和金属底层形成方法及图像显示装置无效
| 申请号: | 01804449.2 | 申请日: | 2001-02-02 |
| 公开(公告)号: | CN1397082A | 公开(公告)日: | 2003-02-12 |
| 发明(设计)人: | 伊藤武夫;田中肇;中泽知子;中山太一郎;篠原孝公;中山洋一郎;坂井和夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;株式会社尼卡技术;富士色素株式会社 |
| 主分类号: | H01J9/22 | 分类号: | H01J9/22;H01J29/28;H01J31/12 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 陈剑华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 转印膜 金属 底层 形成 方法 图像 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及转印膜和使用该转印膜的荧光面的金属底层形成方法、以及具有该金属底层的图像显示装置。
背景技术
以往,在阴极射线管(CRT)或场致发射方式的图像显示装置(FED)等荧光面中,广泛采用在荧光层的内表面(与面板相反侧的表面)上形成金属膜的金属底层方式的结构。此金属底层的作用是,使得因电子源发射的电子作用而从荧光体发出的光线中,将向电子源一侧前进的光线往面板侧反射而提高亮度,或使荧光层的电位稳定。此外,还具有防止残留于真空外壳内的气体电离产生的离子损伤荧光层的功能。
以往,金属底层的形成是采用下述方法进行的,即以旋涂法等在荧光层上形成由硝化纤维素所构成的薄膜(喷漆法),再在其上真空蒸镀铝(Al),进而烘焙除去有机物。
另一方面,在日本特许公开公报1988年第102139号中,作为简便的形成金属底层的方法,提出在预先涂了脱模剂的薄膜上形成金属蒸镀膜,再将其用粘合剂转印至荧光层上(转印方式)。
然而,在利用转印方式形成金属底层的方法中,必须要同时确保对荧光层的充分粘合力、以及在烘焙工序中的耐烘焙特性,但这些特性难以兼顾,迄今,转印方式很难实用化
亦即,为了确保良好的转印性,必须使粘合剂层增厚以确保充分粘合力,但是若增厚粘合剂层,则在下面的烘焙工序中必须分解大量有机物并使其飞溅。因此,此时所产生的分解气体会引起热起泡等金属膜的破坏,很难确保良好的耐烘焙特性。
此外,日本特许公开公报1991年第49131号、1992年第51423号、1993年第190084号公报等公开了在金属膜设置供分解气体散发用的微孔、以改善在转印方式中金属膜的热起泡导致的不良情况的方法。但是这些方法存在的问题是,都会引起金属底层的光反射性能劣化的副作用。
另一方面,日本特许公开公报1989年第30134号公报公开了这样一种结构,即在金属底层与脱模剂层之间形成由丙烯酸树脂等所构成的锚固层,但此方法也不易形成良好的金属膜。
再有,上述利用喷漆法形成金属底层,因为是在具有大的凹凸之衬底面上通过真空蒸镀形成金属膜,所以很难形成薄的高反射率膜。亦即,很难得到高亮度的荧光面,特别是在低速电子束区域工作的FED这种显光面,特别是在低速电子束区域工作的FED这样的显示装置的荧光面,还会发生亮度不均匀的问题。
此外,在FED中,具有荧光面的面板(荧光板)与具有电子发射元件的后面板之间的间隙,为1~数mm左右,从分辨率或是衬垫的特性上来看,不能够使其增大。结果,因为在面板与后面板之间的极为狭窄的间隙施加10kV左右的高压电,形成强电场,所以有容易产生放电(绝缘破坏)的问题。而且,若产生放电,则有电子发射元件或荧光面被破坏或者劣化之虞。
为解决这些问题,本发明的目的在于,提供一种能够以转印方式形成特性良好的金属底层的转印膜、用加工性好的转印方式形成高效金属底层的方法、和金属底层效果好、耐压性优异、可进行高亮度、高品位显示的图像显示装置。
发明内容
本发明的第1发明的转印膜,如权利要求1所述,至少具有基膜、形成于该基膜上的脱膜剂层、保护膜和金属膜,其特征在于,所述保护膜以树脂为主体,并含有选自磷酸酯、脂族一元酸酯、脂族二元酸酯、二元醇酯、羟基酸酯、油酸丁酯、己二酸二丁酯、氯化石蜡、甲苯磺酰乙酰胺、甲苯磺酰甲酰胺、氨基苯磺酰胺化合物、磺酰胺化合物、松香酸甲酯、二壬基萘、乙酰基柠檬酸三丁酯、氨基甲苯磺酰胺化合物、N-丁基苯磺酰胺中的至少一种柔软剂。
在第1发明的转印膜中,如权利要求2所述,柔软剂最好占构成保护膜的全部材料的1-30质量%。此外,如权利要求3所述,保护膜的厚度最好为0.1-30μm。另外,如权利要求4所述,金属膜上最好还有粘合剂层。并且,如权利要求5所述,作为粘合剂,可使用选自乙酸乙烯树脂、乙烯/乙酸乙烯共聚物、苯乙烯/丙烯酸树脂、乙烯/乙酸乙烯/丙烯酸三元共聚物树脂、氯乙烯/乙酸乙烯共聚物树脂、聚丁烯树脂、聚酰胺树脂中的至少一种作为主要成分。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;株式会社尼卡技术;富士色素株式会社,未经株式会社东芝;株式会社尼卡技术;富士色素株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01804449.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





