[发明专利]转印膜和金属底层形成方法及图像显示装置无效
| 申请号: | 01804449.2 | 申请日: | 2001-02-02 |
| 公开(公告)号: | CN1397082A | 公开(公告)日: | 2003-02-12 |
| 发明(设计)人: | 伊藤武夫;田中肇;中泽知子;中山太一郎;篠原孝公;中山洋一郎;坂井和夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;株式会社尼卡技术;富士色素株式会社 |
| 主分类号: | H01J9/22 | 分类号: | H01J9/22;H01J29/28;H01J31/12 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 陈剑华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 转印膜 金属 底层 形成 方法 图像 显示装置 | ||
1.转印膜,至少具有基膜、形成于该基膜上的脱膜剂层、保护膜和金属膜,
其特征在于,所述保护膜以树脂为主体,并含有选自磷酸酯、脂族一元酸酯、脂族二元酸酯、二元醇酯、羟基酸酯、油酸丁酯、己二酸二丁酯、氯化石蜡、甲苯磺酰乙酰胺、甲苯磺酰甲酰胺、氨基苯磺酰胺化合物、磺酰胺化合物、松香酸甲酯、二壬基萘、乙酰基柠檬酸三丁酯、氨基甲苯磺酰胺化合物、N-丁基苯磺酰胺中的至少一种柔软剂。
2.如权利要求1所述的转印膜,其特征在于,所述柔软剂占构成保护膜的全部材料的1-30质量%。
3.如权利要求1所述的转印膜,其特征在于,所述保护膜的厚度为0.1-30μm。
4.如权利要求1所述的转印膜,其特征在于,所述金属膜上还有粘合剂层。
5.如权利要求1所述的转印膜,其特征在于,所述粘合剂的主要成分是选自乙酸乙烯树脂、乙烯/乙酸乙烯共聚物、苯乙烯/丙烯酸树脂、乙烯/乙酸乙烯/丙烯酸三元共聚物树脂、氯乙烯/乙酸乙烯共聚物树脂、聚丁烯树脂、聚酰胺树脂中的至少一种。
6.转印膜,至少具有基膜、形成于该基膜上的脱膜剂层和转印层,其特征在于,所述转印层具有表面电阻率为102~108Ω/□的高电阻层。
7.如权利要求6所述的转印膜,其特征在于,所述转印层具有表面电阻率为102~108Ω/□的高电阻层及在其上面形成的表面电阻率小于102Ω/□的光反射层。
8.金属底层的形成方法,其特征在于,它具有:
在面板内表面上形成荧光体层的工序;
金属膜转印工序,在该工序中,将权利要求1的转印膜放置在面板内表面上,使其金属膜通过粘合剂层与上述荧光体层接触,将上述转印膜压粘在上述荧光体层上后,剥去该转印膜的基膜;
对上述荧光层上有转印的金属膜的面板进行热处理的工序。
9.如权利要求9所述的方法,其特征在于,在上述金属膜转印工序之前,有一个在转印膜的金属膜或者荧光层中的至少一方之上形成粘合剂层的工序。
10.如权利要求10所述的方法,其特征在于,它具有:
在面板内表面上形成荧光体层的工序;
转印工序,在该工序中,将权利要求6的转印膜放置在面板内表面上,使其转印层通过粘合剂与上述荧光体层接触,将上述转印膜压粘在上述荧光体层上之后,剥去该转印膜的基膜;
对上述荧光层上有转印的转印层的面板进行热处理的工序。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,它具有:
在面板内表面上形成荧光体层的工序;
转印工序,在该工序中,将权利要求7的转印膜放置在面板内表面上,使其转印层通过粘合剂与上述荧光体层接触,将上述转印膜压粘在上述荧光体层上之后,剥去该转印膜的基膜;
对上述荧光层上有转印的转印层的面板进行热处理的工序。
12.如权利要求10所述的方法,在上述转印工序之前,有一个在转印膜的转印层或者荧光体层中的至少一方之上形成粘合剂层的工序。
13.如权利要求11所述的方法,在上述转印工序之前,有一个在转印膜的转印层或者荧光体层中的至少一方之上形成粘合剂层的工序。
14.图像显示装置,其特征在于,其面板内表面上有具有金属底层的荧光面,该金属底层用权利要求8的方法形成。
15.图像显示装置,它包括:
具有后面板和与该后面板对向配置的面板的外壳;
形成于上述后面板上的许多电子发射元件;
在上述面板上与上述后面板对向形成、通过上述电子发射元件发出的电子束进行发光的荧光体层,
其特征在于,
其面板内表面上有具有金属底层的荧光面,该金属底层用权利要求8的方法形成。
16.图像显示装置,其面板的内表面上有荧光层和形成于该荧光层上的金属底层,其特征在于,该金属底层具有表面电阻率为103~1010Ω/□的高电阻层。
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