[发明专利]场分布测量方法及装置

权利要求书

1.一种场分布测量方法，通过使探头连续进行扫描的同时，在多数取样点上进行测量，测量电场或磁场的空间分布，其特征在于：

根据由上述探头的位置和测量定时之间的偏差所产生的寄生频谱，计算出取样点的偏差量，并考虑上述偏差量，测量电场或磁场的分布。

2.如权利要求1所述的场分布测量方法，其特征在于：

使上述探头在第1方向扫描的同时测量的多数测量数据，与上述探头的位置信息一起作为基准数据进行记录；

使上述探头在与上述第1方向相反的第2方向上扫描的同时测量的多数测量数据，与上述探头的位置信息一起作为调整数据进行记录；

对上述调整数据进行插补处理，计算出对上述取样点间的数据进行插补的插补数据；

计算出对上述基准数据及上述插补数据的空间频率功率谱；

根据上述空间频率功率谱，计算出上述取样点的偏差量。

3.如权利要求2所述的场分布测量方法，其特征在于：

上述取样点的偏差量，根据上述空间频率功率谱的累积值算出。

4.如权利要求3所述的场分布测量方法，其特征在于：

上述取样点的偏差量，根据上述空间频率频谱的累积值为规定值以下的点进行判断。

5.如权利要求3或4所述的场分布测量方法，其特征在于：

上述取样点的偏差量，根据上述空间频率频谱的累积值为最小的点进行判断。

6.如权利要求1至5的任一项所述的场分布测量方法，其特征在于：

考虑上述探头的加速·减速，计算出上述取样点的偏差量。

7.如权利要求1至6的任一项所述的场分布测量方法，其特征在于：

上述探头在二维平面上扫描。

8.如权利要求1至6的任一项所述的场分布测量方法，其特征在于：

上述探头在三维空间内扫描。

9.一种场分布测量装置，其特征在于包括：

探头，用于在平面上或空间内连续进行扫描的同时，在多数取样点上检测电场或磁场；

测量器，用于测量由上述探头所检测的电场或磁场；

记录装置，用于对由上述测量器所测量的电场或磁场数据与上述探头的位置数据一起进行记录；

数据处理装置，用于根据上述记录装置所记录的数据，计算出由上述探头的位置和测量的定时之间的偏差所产生的取样点偏差量；以及

运算装置，该装置考虑由上述数据处理装置所计算出的上述取样点的偏差量，计算由上述探头所检测出的电场或磁场的空间分布。

10.如权利要求9所述的场分布测量装置，其特征在于：

上述数据处理装置根据由上述探头的位置和测量定时之间的偏差所产生的寄生频谱，判断上述取样点的偏差量。