[发明专利]基板处理装置及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 01123126.2 申请日: 2001-07-12
公开(公告)号: CN1333552A 公开(公告)日: 2002-01-30
发明(设计)人: 佐藤纪胜;绪方久仁惠;木村义雄;富田浩;中岛清次;神谷英彦 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张天安,温大鹏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,其特征是,具备:

包含载置收容有多个基板的基板收容盒的载置部、以及相对于载置于所说载置部上的基板收容盒进行基板的传递的传递部的收容盒工作站,

包含在从所说收容盒工作站送来的基板上涂布处理液的基板处理部的处理工作站,

包含连接在所说处理工作站上、对所说基板进行所说基板处理部的处理状况检查的检查部的检查工作站,

在所说处理工作站与检查工作站之间进行基板的传递的基板输送部。

2.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站与处理工作站二者并排排列,所说检查工作站在与排列方向大约垂直的方向上的宽度为所说处理工作站在与排列方向大约垂直的方向上的宽度以下。

3.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站在与收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上与所说处理工作站相连接。

4.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站这样构成,即,能够与所说收容盒工作站和所说处理工作站中的至少一方自由连接和分离。

5.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站包含有多个种类的检查部。

6.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站包含有所说基板处理部中所使用的材料的收容部。

7.如权利要求6所说的基板处理装置,其特征是,

所说基板处理部是向基板供给预定的液体的处理部,

所说收容部的材料是所说的液体。

8.如权利要求6所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站包含有用来与处理工作站之间进行基板的传递的基板输送部。

9.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站包含有基板的传递部。

10.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站包含有用来在与所说收容盒工作站的传递部之间进行基板的传递的基板的传递部。

11.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站的所说检查部,以将该检查工作站在该检查工作站的排列方向上两等分的线为对称轴而对称地配置有多个。

12.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说检查工作站具有用来对该检查工作站内部的温度和湿度中的至少一方进行调整的调整部。

13.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说收容盒工作站、所说处理工作站和所说检查工作站在与所说收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上排列,

所说检查工作站设置在所说收容盒工作站与处理工作站之间。

14.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说收容盒工作站、所说处理工作站和所说检查工作站在与所说收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上排列,

所说处理工作站设置在所说收容盒工作站与所说检查工作站之间。

15.如权利要求1所说的基板处理装置,其特征是,

所说处理工作站具有多个基板处理部,

所说基板处理部中的至少一个是用来在涂布抗蚀液并曝光后的基板上涂布显影液而进行显影的,

所说检查工作站具有多个检查装置,

所说检查装置中的至少一个是用来对基板进行显影处理之处理状况进行检查的,

所说收容盒工作站、所说处理工作站和所说检查工作站在与所说收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上排列,

所说检查工作站设置在所说收容盒工作站与所说处理工作站之间。

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