[发明专利]有机化合物的汽相沉积法和精制法无效
| 申请号： | 01111302.2 | 申请日： | 2001-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN1320718A | 公开（公告）日： | 2001-11-07 |
| 发明（设计）人： | 城户淳二;远藤润;森浩一;横井启 | 申请（专利权）人： | 城户淳二;爱美思公司 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 黄泽雄 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机化合物 沉积 精制 | ||
1．一种有机化合物汽相沉积的方法，所述的方法包括：
在容器中调和有机化合物粉末与至少一种陶瓷，金属及陶瓷涂层的金属的一种粉末和碎粒子的混合物；
在真空条件下加热所述的容纳有所述混合物的容器，以致于所述的有机化合物升华和蒸发，并沉积到物体的表面，从而在其上面形成薄薄有机化合物层。
2．按照权利要求1所述的有机化合物的汽相沉积方法，其中有机化合物粉末与至少一种陶瓷，金属及陶瓷涂层了的金属的混合体积比率在1∶50至50∶1的范围内。
3．按照权利要求1所述的有机化合物的汽相沉积方法，其中陶瓷，金属及陶瓷涂层了的金属的粉末或碎粒子的粒子直径在0.01μm至6mm的范围内。
4．按照权利要求1所述的有机化合物的汽相沉积方法，其中陶瓷包括一种多孔陶瓷材料。
5．按照权利要求1所述的有机化合物的汽相沉积方法，其中陶瓷包括一种金属氧化物、金属氮化物、碳化物和炭。
6．按照权利要求5所述的有机化合物的汽相沉积方法，其中陶瓷包括一种氮化铝、碳化硅和炭。
7．按照权利要求1所述的有机化合物的汽相沉积方法，其中有机化合物用来形成一种有机的电场致发光元件。
8．按照权利要求1所述的有机化合物的汽相沉积方法，其中容器是坩埚和舟皿。
9．一种有机化合物的精制方法，所述的方法包括：
在容器中调和有机化合物粉末与至少一种陶瓷，金属及陶瓷涂层了的金属的一种粉末和碎粒子的混合物；
在真空中加热所述的容纳有所述混合物的容器，以致于所述的有机化合物升华和蒸发，以提取有机化合物。
10．按照权利要求9所述的有机化合物的精制方法，其中有机化合物粉末与至少一种陶瓷，金属及陶瓷涂层了的金属的混合体积比率在1∶50至50∶1的范围内。
11．按照权利要求9所述的有机化合物的精制方法，其中陶瓷，金属及陶瓷涂层了的金属的粉末或碎粒子的粒子直径在0.01μm至6mm的范围内。
12．按照权利要求9所述的有机化合物的精制方法，其中陶瓷包括一种多孔陶瓷材料。
13．按照权利要求9所述的有机化合物的精制方法，陶瓷包括一种金属氧化物、金属氮化物、碳化物和炭。
14．按照权利要求13所述的有机化合物的精制方法，其中陶瓷包括一种氮化铝、碳化硅和炭。
15．按照权利要求9所述的有机化合物的精制方法，其中有机化合物用来形成一种有机的电场致发光元件。
16．按照权利要求9所述的有机化合物的精制方法，其中容器是坩埚和舟皿。
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