[发明专利]减少气体中废气量的清洁装置

权利要求书

1.一种气体的清洁装置，包括：

一气体注入管路，以提供气体进行处理；

一分解反应室，与该气体注入管路相连接，以使气体进行处理，所述气体会在该分解反应室中经过热处理分解成复数种副产物；

冷却装置，以冷却在分解反应中产生的这些副产物；

清洁装置，用以清除在分解反应中产生的这些副产物；

其特征在于：它还包括：

一传送装置以传送光线，安装在该气体注入管路上于该分解反应室前；

一激光元件，安装在分解反应室之前，借以产生一激光光束，经过该传送装置分解通过该气体注入管路的气体，产生复数个气体离子以引发分解反应。

2.根据权利要求1所述的气体清洁装置，其特征在于：它还包括安装有一多重反射镜子组，使该激光光束可以通过气体数次。

3.根据权利要求2所述的气体清洁装置，其特征在于：该气体注入管路的横切面面积为0.317平方厘米。

4.根据权利要求3所述的气体清洁装置，其特征在于：该气体注入管路的气体流量为16.7毫升/秒。

5.根据权利要求4所述的气体清洁装置，具特征在于：该激光的焦点约距该分解反应室50厘米。

6.根据权利要求5所述的气体清洁装置，其特征在于：该激光的脉冲为1微秒，该激光焦点的大小约为0.1-1毫米，且聚焦密度在百万瓦/平方厘米的等级中。

7.根据权利要求6所述的气体清洁装置，其特征在于：处理的气体为氟碳比合物气体。

8.根据权利要求7所述的气体清洁装置，其特征在于：在该分解反应室之前约有10⁹摩尔/毫升的气体会被引发分解。

9.一种气体清洁装置，包括：

一气体注入管路，以提供气体进行处理；

一分解反应室，与该气体注入管路相连接，以使气体进行处理，所述气体会在该分解反应室中经过热处理分解成复数种副产物；

冷却装置，以冷却在分解反应中产生的这些副产物；

清洁装置，用以清除在分解反应中产生的这些副产物；

其特征在于：它还包括一微波发生器，安装在分解反应室之前，借以产生一微波辐射经过该气体注入管路的气体，产生复数种气体离子以引发分解反应。

10.一种气体清洁装置，包括：

一气体注入管路，以提供气体进行处理；

一分解反应室，与该气体注入管路相连接，以使气体进行处理，所述气体会在该分解反应室中经过热处理分解成复数种副产物；

冷却装置，以冷却在分解反应中产生的这些副产物；

清洁装置，用以清除在分解反应中产生的这些副产物；

其特征在于：它还包括一分解气体装置，安装在分解反应室之前，借以分解通过该气体注入管路的气体，产生复数个气体离子以引发分解反应。