[发明专利]抛光组合物

说明书

本发明涉及一种抛光组合物。具体地说，本发明涉及一种能提高抛光速率、降低表面粗糙度(Ra)和波度(Wa)并由此给出高质量抛光表面的抛光组合物，本发明还涉及采用该抛光组合物的抛光方法、表面光滑度提高的磁盘基片，以及制造该磁盘基片方法。

对提高硬盘的记录密度一直有着不断增高的需求，为了降低磁头的浮动量，要求提高盘片平坦度(表面光滑度)。具体地说，要求具有这样的表面光滑度，即盘片的表面粗糙度(Ra)和波度(Wa)这两者都为3埃或以下。尤其对降低会损坏磁盘设备或引起读写信息错误的盘片波度，人们是很关注的。通常，为了获得所要求的表面光滑度，就实施一种包括用含有磨粒例如氧化铝的抛光液抛光基材，然后进一步用含有更细粒径氧化硅颗粒作为磨粒的抛光液进行抛光的方法。然而，使用氧化硅颗粒的抛光液具有抛光速率慢的缺点，因此需要进一步提高抛光速率。例如，日本专利公开号No.平11-167711中提出了一种方法，它包括将一种化合物例如柠檬酸铁、草酸铁或氯化铁加入含有由氧化硅颗粒构成的磨粒的抛光液中；日本专利公开号No.平10-204416等中提出了一种方法，它包括加入氧化硅胶体和一种化合物例如柠檬酸铁、柠檬酸铁铵或草酸铁铵。在这两种方法中，抛光速率的提高不够。

本发明的一个目的是提供一种能够提高抛光速率、产生很少表面缺陷例如划痕和凹坑，并提高表面光滑度即降低例如表面粗糙度(Ra)和波度(Wa)的抛光组合物；提供采用该抛光组合物的抛光方法；提供表面光滑度例如表面粗糙度(Ra)和波度(Wa)改善的磁盘基片；并提供制造该磁盘基片的方法。

本发明的这些和其他目的可从下面的描述了解的。

根据本发明，提供：

(1)一种含有氧化硅颗粒、水和聚氨基羧酸的Fe盐和/或Al盐的抛光组合物；

(2)上述(1)的抛光组合物，它进一步还含有无机酸和/或有机酸；

(3)一种抛光方法，它采用上述(1)或(2)的抛光组合物；

(4)一种制造磁盘基片的方法，它包括用上述(1)或(2)的抛光组合物抛光基

片的步骤；

(5)一种磁盘基片，它通过采用上述(1)或(2)的抛光组合物制成。

在本发明中，从改进表面光滑度例如表面粗糙度(Ra)和波度(Wa)和提高抛光速率的角度考虑，使用聚氨基羧酸的金属盐(Fe盐和/或Al盐)。聚氨基羧酸金属盐的聚氨基羧酸部分具有通过与金属离子连接而形成螯合物的多齿配体，而且具有两个或多个羧基。从提高抛光速率、抑制金属离子沉淀和提高可溶性的角度考虑，聚氨基羧酸的分子量优选80-1000，更优选140-600。另外，从提高抛光速率的角度考虑，聚氨基羧酸的羧基数目优选3个或更多，从提高可溶性的角度考虑，羧基数目优选10个或更少，更优选8个或更少，再优选6个或更少。聚氨基羧酸的具体例子包括乙二胺四乙酸、羟基乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、二乙三胺五乙酸、三乙四胺六乙酸、二羧甲基谷氨酸、羟乙基亚氨基二乙酸、二羟乙基甘氨酸、1,3-丙二胺四乙酸、1,3-二氨基-2-羟丙烷四乙酸等。其中优选乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、二乙三胺五乙酸、二羧甲基谷氨酸和1,3-丙二胺四乙酸，尤其优选乙二胺四乙酸。

另外，从提高抛光组合物的抛光速率并阻止氧化硅磨粒的分散性减小的角度考虑，作为用于聚氨基羧酸金属盐的金属离子，优选铁和铝离子。更优选铁离子，尤其优选3价的铁离子。另外，从提高可溶性的角度考虑，金属盐可以是含有铵离子或钠离子的金属盐。在本说明书中，聚氨基羧酸的铁盐指任何含有铁原子的盐，不仅包括铁盐，还包括铁钠盐和铁铵盐。铝盐也是一样，它不仅包括铝盐，而且还包括铝钠盐和铝铵盐。

聚氨基羧酸金属盐的优选例子包括乙二胺四乙酸铁、乙二胺四乙酸铝、乙二胺四乙酸铵铝、二乙三胺五乙酸铁、1,3-丙二胺四乙酸铁、二乙三胺五乙酸铝、1,3-丙二胺四乙酸铝、乙二胺四乙酸铵铁、乙二胺四乙酸钠铁、1,3-丙二胺四乙酸铝铵铁、二乙三胺五乙酸铵铁、二乙三胺五乙酸钠铁等。另外，这些聚氨基羧酸盐可以预先形成必需的金属盐，或者可以将无机酸的盐例如硝酸盐、硫酸盐或磷酸盐或有机酸的盐例如乙酸与聚氨基羧酸和/或铁盐和铝盐以外的聚氨基羧酸盐混合，进行抛光组合物中的螯合交换，从而获得所要求的盐，所用的无机盐或有机盐都含有所述金属。