[发明专利]抛光组合物有效
| 申请号： | 01103203.0 | 申请日： | 2001-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN1307079A | 公开（公告）日： | 2001-08-08 |
| 发明（设计）人： | 萩原敏也;内藤宏一;藤井滋夫 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 | ||
1．一种抛光组合物，它含有氧化硅颗粒、水和聚氨基羧酸的铁盐和/或铝盐。
2．如权利要求1所述的抛光组合物，它还含有无机酸和/或有机酸。
3．如权利要求1所述的抛光组合物，其中所述的氧化硅颗粒具有这样的粒径分布：D90与D50的比率(D90/D50)为1.3-3.0，而且D50为10-600纳米，其中D90定义为累积粒径分布中在数目基础上从小粒径-侧计数至90％的粒径，D50定义为累积粒径分布中在数目基础上从小粒径一侧计数至50％的粒径。
4．如权利要求3所述的抛光组合物，其中所述的氧化硅颗粒具有这样的粒径分布，D10是5-100纳米，其中D10定义为累积粒径分布中在数目基础上从小粒径一侧计数至10％的粒径。
5．如权利要求1所述的抛光组合物，其中所述的氧化硅颗粒含有两种或更多种D50彼此不同的氧化硅颗粒，其中D50L与D50S的比率(D50L/D50S)为1.1-4.0,A与B的重量比(A/B)为90/10-10/90，其中D50定义为累积粒径分布中在数目基础上从小粒径一侧计数至50％的粒径，D50L是指具有最大D50的那种氧化硅颗粒(B)的D50,D50S是指具有最小D50的那种氧化硅颗粒(A)的D50。
6．如权利要求1所述的抛光组合物，其中所述的氧化硅颗粒具有这样的粒径分布：累积粒径分布中在数目基础上从小粒径一侧计数至40纳米粒径的百分率为25％或更小，其中D50为50-600纳米，其中所述的D50定义为累积粒径分布中在数目基础上从小粒径一侧计数至50％的粒径。
7．如权利要求1所述的抛光组合物适合用来抛光磁盘基片。
8．一种抛光方法，它包括使用权利要求1所述的抛光组合物。
9．一种制造磁盘基片的方法，它包括用权利要求1所述的抛光组合物抛光基片的步骤。
10．一种使用权利要求1所述的抛光组合物制得的磁盘基片。
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