[发明专利]含有中性、多齿氮杂环配位体的金属化合物,使用它们的催化剂,和用它们进行烯烃聚合的方法无效

专利信息
申请号: 00805727.3 申请日: 2000-02-25
公开(公告)号: CN1345322A 公开(公告)日: 2002-04-17
发明(设计)人: G·G·赫拉特凯 申请(专利权)人: 伊奎斯塔化学有限公司
主分类号: C07F5/00 分类号: C07F5/00;C07D231/00;C07D293/00;C08F4/44;C08F4/02;C08F4/60;B01J31/00;B01J37/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 黄淑辉
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 含有 中性 多齿氮杂环配位体 金属 化合物 使用 它们 催化剂 进行 烯烃 聚合 方法
【权利要求书】:

1.一种催化剂,该催化剂包括:

(a)活化剂;和

(b)过渡金属络合物,该络合物含有:

(i)第3-10族过渡金属或镧系金属,M;

(ii)一个或多个阴离子或中性配位体,其数量要满足M的化合价;

(iii)下式的中性、多齿配位体:

                        Ra-A-(L)b

其中R是氢或C1-C30烷基、芳基或芳烷基,A是硅、锡、锗或铅,每个L独立地是取代或未取代的吡唑基、三唑基或四唑基,a=0-2,b=2-4,和a+b=4。

2.如权利要求1的催化剂,其中所述活化剂选自铝氧烷、烷基铝化合物、烷基硼化合物以及非亲核硼酸盐和铝酸盐。

3.如权利要求1的催化剂,其中所述过渡金属络合物含有第3-6族的过渡金属或镧系金属。

4.如权利要求1的催化剂,其中M是第4族过渡金属和M的氧化态是3+

5.如权利要求1的催化剂,其中所述中性、多齿配位体具有下式结构:

                (H3C)a-Si-(L)b

其中a=1-2和b=2-3。

6.一种权利要求1的负载催化剂。

7.一种下式的中性配位体:

                Ra-A-(L)b

其中R是氢或C1-C30烷基、芳基或芳烷基,A是硅、锡、锗或铅,每个L独立地是取代或未取代的吡唑基、三唑基或四唑基,a=0-2,b=2-4,和a+b=4,条件是当R=甲基,A是硅,和a=1时,L不是3,5-二甲基吡唑基。

8.如权利要求7的配位体,其中R是甲基,A是硅,L是未取代的吡唑基,以及a=1。

9.一种过渡金属络合物,该络合物含有:

(a)第3-10族过渡金属或镧系金属,M;

(b)一个或多个阴离子或中性配位体,其数量要满足M的化合价;以及

(c)下式的中性、多齿配位体:

                    Ra-A-(L)b

其中R是氢或C1-C30烷基、芳基或芳烷基,A是硅、锡、锗或铅,每个L独立地是取代或未取代的吡唑基、三唑基或四唑基,a=0-2,b=2-4,和a+b=4,条件是当R=甲基,A是硅,和a=1时,L不是3,5-二甲基吡唑基。

10.如权利要求9的过渡金属络合物,该络合物含有第3-6族过渡金属或镧系金属。

11.如权利要求9的过渡金属络合物,其中A是硅。

12.一种包括烯烃聚合在内的方法,在该方法中存在有权利要求1的催化剂。

13.如权利要求12的方法,其中所述烯烃是乙烯,或是乙烯和α-烯烃的混合物。

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