[发明专利]在烃裂解反应器的反应管内壁形成涂层的方法

权利要求书

1、一种在烃裂解反应器的反应管内壁上在线涂布连续无机涂膜的方法，以阻止焦炭在所述反应管内壁上的生成和沉积，包括：

将烷氧基金属气相沉积在所述反应管内壁上作为扩散阻隔层，与此同时，在600～900℃的温度、0～3千克/厘米²的压力下，以1～5000千克/小时/盘管的流率通入载气。

2、如权利要求1所述的方法，其中，在形成扩散阻隔层之前，在所述反应管的内壁上直接形成一缓冲层；缓冲层由烷氧基金属和铬化合物的混合溶液气相沉积在反应管内壁上而成，与此同时，在600～900℃的温度、0～3千克/厘米²的压力下，以1～5000千克/小时/盘管的流率通入载气。

3、如权利要求1或2所述的方法，还进一步包括形成一除焦层，该除焦层由气相沉积烷氧化物与碱金属或碱土金属氧化物的混合物到所述无机涂膜上而成，与此同时，在600～900℃的温度、0～3千克/厘米²的压力下，以1～5000千克/小时/盘管的流率通入载气。

4、如权利要求要求1或2所述的方法，其中，所述载气选自于氮气、氦气、氩气、二氧化碳、空气、氧气和蒸汽中的一种。

5、如权利要求1所述的方法，其中，以通入反应器的载气总量计，所述无机涂膜由0.001～10wt％的烷氧基金属沉积而成。

6、如权利要求1所述的方法，其中，所述无机涂膜的厚度为4～12μm。

7、如权利要求2所述的方法，其中，所述烷氧基金属和铬化合物各自引入反应管，其量为载气总量的0.001～10wt％。

8、如权利要求7所述的方法，其中，所述的量为0.05～1.0wt％

9、权利要求2所述的方法，其中，所述的缓冲层的厚度为1～5μm。

10、如权利要求1、2和5中的任一方法，其中，所述的烷氧基金属选自于四乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、叔丁氧基钛、异丙氧基钛、乙酰丙酮铝、三异丙氧基铝及其混合物。

11、如权利要求2所述的方法，其中，所述的铬化合物选自于乙酰丙酮铬、羰基铬、2-乙基己酸铬(III)、六氟乙酰丙酮铬(III)及其混合物。

12、如权利要求所述3的方法，其中，所述的碱金属或碱土金属化合物选自于乙酰丙酮钾、四甲基庚二酮酸钾、乙酸钾、乙酰丙酮钙、四甲基庚二酮酸钙、乙酸钙、丙酮酸镁、四甲基庚二酮酸镁、乙酸镁、乙酰丙酮钡、四甲基庚二酮酸钡、乙酸钡、乙酰丙酮锂、四甲基庚二酮酸锂、乙酸锂及其混合物。

13、如权利要求3或10所述的方法，其中，所述的碱金属或碱土金属化合物是以占载气总量的0.001～10wt％的量引入反应器的。

14、如权利要求3或10所述的方法，其中，所述阻隔层的厚度为0.1～2μm。