[发明专利]缺陷检查系统

说明书

技术领域

本发明涉及用于检查半导体晶片、LCD(液晶显视器)基片、印制电路板等表面缺陷的缺陷检查系统。

背景技术

一般，在半导体晶片制造工序中，在由硅构成的基片上通过成膜层形成图形化的具有抗蚀剂的膜。

但在这种光刻工艺中，若在基片表面上所涂敷的抗蚀剂上，出现膜层不均匀或沾附灰尘等，则在腐蚀后会造成图形线宽不合格或者图形内产生针孔等缺陷。

因此，在腐蚀前的基片制造工序中，通常，对全部基片都要进行有无缺陷的检查。这种全数基片检查的方法大都是由检验员以目视方式来观察基片的表面。但是，若采用这种由检验员以目视方式来观察基片的方法，则不能不考虑检验员判断能力的差异以及检验员进出净化室时身体上产生灰尘的影响。因此，最近研究出一种在消除检验员判断能力差异的同时能从净化室外部检查基片缺陷的缺陷检查系统。

这种缺陷检查系统为了消除检验员判断能力的差异，预先制定出一种决定缺陷抽取及程度的处理方法，根据该方法来检测表面缺陷。该处理方法的编制是：例如，用CCD摄像机来拍摄一批被验产品中任意一片基片的图像，对该已拍摄的2维图像进行图像处理，这样来抽取伤痕、不匀、灰尘等各种缺陷。检验员一边确认该缺陷抽取程度，用操作部来输入那种决定抽取条件的参数值，进行调整，一边决定参数，使合格与否的判断达到最佳状态。并且，一边由检验员用目视或显微镜来观看实际缺陷，一边对缺陷进行登录，以使分类。

但是，过去的处理方法的制定是：对许多基片一片一片地改变那种决定缺陷抽取条件的参数值，然后用图像重新的确认缺陷的抽取程度，这样的处理对每块基片都重复进行数次，以便决定参数，使合格与否的判断达到最佳状态。因此，制定处理方法的工作要花费很多时间，而且，与其他基片的比较只能按数值进行。所以，存在的问题是：对不同的检验员，在处理方法的内容方面容易产生误差。

本发明的目的在于提供一种缺陷抽取用的处理方法的制定简单易行，而且可靠性很高的缺陷检查系统。

发明的公开

(1)本发明的缺陷检查系统具有：

图像取得装置，用于取得在制造工序中作为处理对象的被检查物体二维图像；

缺陷抽取装置，用于对该图像取得装置所取得的图像按照采用规定参数的缺陷抽取算法来抽取缺陷；

显示装置，用于显示由该缺陷抽取装置抽取的上述被检查物体的缺陷图像；

参数调整装置，用于根据对上述被检查物体的缺陷抽取程度来调整上述参数；以及

缺陷抽取装置，用于根据由上述缺陷抽取装置所抽取的缺陷的信息，来判断上述被检查物体是否合格。

(2)本发明的缺陷检查系统是上述(1)所述的系统，而且，上述合格与否判断装置具有的功能是：对由上述缺陷抽取装置所抽取的缺陷信息与缺陷词典中所登录的缺陷数据进行对照，判断出上述缺陷的种类；及把新出现的缺陷数据登录到上述缺陷词典内。

(3)本发明的缺陷检查系统是上述(1)所述的系统，而且上述参数调整装置由滑动开关构成，该开关显示在上述显示装置的画面上用于调整参数，该滑动开关和上述被检查物体的图像同时显示在上述显示装置的画面上。

(4)本发明的缺陷检查系统是上述(1)所述的系统，而且上述缺陷抽取装置具有预先自动设定参数的功能，该参数用于判断缺陷已知的被检查物体。

(5)本发明的缺陷检查系统是上述(1)所述的系统，而且上述合格与否判断装置对上述被检查物体的图像进行是否合格的判断，该被检查物体图像是按照上述参数调整装置所设定的参数由上述缺陷抽取装置进行缺陷抽取后而获得的。

(6)本发明的缺陷检查系统是上述(1)所述的系统，而且，上述显示装置具有把上述缺陷抽取装置所抽取的许多个被检查物体图像加以缩小进行一览显示的功能。

(7)本发明的缺陷检查系统是上述(6)所述的系统，而且上述显示装置对把图像缩小后而形成的缩小预显示(thumbnail)图像进行一览显示。

(8)本发明的缺陷检查系统是上述(7)所述的系统，而且，上述显示装置对每批存放上述被检查物体的片盒分别显示上述缩小预显示图像。

(9)本发明的缺陷检查系统是上述(1)所述的系统，而且，上述显示装置在与上述缺陷抽取装置所抽取的许多被检查物体的图像进行显示的区域不同的区域内，显示出由上述合格与否判断装置判断为不合格的被检查物体的图像。

(10)本发明的缺陷检查系统是上述(1)所述的系统，而且，上述显示装置把由上述缺陷抽取装置所抽取的缺陷重合到上述被检查物体的图像上进行显示。