[实用新型]化学气相沉积金刚石均质喷嘴无效
申请号: | 00236609.6 | 申请日: | 2000-05-24 |
公开(公告)号: | CN2423289Y | 公开(公告)日: | 2001-03-14 |
发明(设计)人: | 周兵;陈继锋;刘志平;刘广录;郭松寿;张柏春 | 申请(专利权)人: | 北京天地东方金刚石技术有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 1000*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 沉积 金刚石 喷嘴 | ||
本实用新型是提供一种金刚石均质喷嘴,特别是一种化学气相沉积(CVD)金刚石均质喷嘴。
金刚石均质喷嘴是用于纳米材料生产的关键部件。
目前习用的金刚石均质喷嘴,是为两片结构如图1所示,包括一前片1及一后片2,在前片1上开有两个进料孔11,在前片1的一面两个进料孔11之间开有一沟槽12,该沟槽12将两个进气孔连通;在后片2的中心开有一出气孔21,当前片1及后片2叠置时,该进料孔11经沟槽12可与出气孔21连通,而形成喷嘴。前述的喷嘴具有如下缺点,首先该喷嘴所采用的材料是为天然金刚石材料,不仅价格昂贵,而且因其硬度高所以加工非常困难,尤其是前片1上的沟槽12加工最为困难。因其加工难度大所以沟槽12的尺寸不易掌握,也就是加工精度不高,所以喷嘴的质量很难提高。
本实用新型的主要目的在于提供一种化学气相沉积金刚石均质喷嘴,其具有便于加工、质量稳定的优点。
本实用新型的另一目的在于提供一种化学气相沉积金刚石均质喷嘴,因其采用化学气相沉积(CVD)金刚石,所以具有成本低的优点。
缘以达成上揭目的,本实用新型所提供的一种化学气相沉积金刚石均质喷嘴,是包含有:一进料均质片,在该进料均质片的中间位置开有两个进料口;一共振均质片,在该共振均质片的中间位置开有一共振腔口;一出料均质片,在该出料均质片的中间位置开有一出料口;所述进料均质片、共振均质片、出料均质片依次叠置形成均质喷嘴。
其中该进料均质片、共振均质片、出料均质片均为由化学气相沉积金刚石制作的圆形,在该进料均质片、共振均质片、出料均质片的外周焊接制作有一圈金属环形基体。
其中该进料均质片中间的两个进料口为圆形或椭圆形。
其中该共振均质片中间的共振腔口为长方形或两端为弧形的矩形。
其中该出料均质片中间的出料口为圆形或椭圆形。
有关本实用新型的详细构造、功用及特点,可由以下实施例配合附图的详细说明而得以充分了解,其中:
图1是习用喷嘴的示意图;
图2是本实用新型喷嘴的分解图;
图3是图2的结构原理图,显示本实用新型的工作状态。
请参阅图2与图3所示,本实用新型化学气相沉积金刚石均质喷嘴包括有,一进料均质片10,在该进料均质片10的中间位置开有两个进料口121,该两个进料口121为圆形或椭圆形;
一共振均质片20,在该共振均质片20的中间位置开有一共振腔口221,该共振腔口221为长方形或两端为弧形的矩形;
一出料均质片30,在该出料均质片30的中间位置开有一出料口321,出料口321为圆形或椭圆形。
将所述进料均质片10、共振均质片20、出料均质片30依次叠置形成均质喷嘴;其中该进料均质片10、共振均质片20、出料均质片30均为由化学气相沉积金刚石制作的圆形,在该进料均质片10、共振均质片20、出料均质片30的外周焊接制作有一圈金属环形基体111。
本实用新型的工作过程为:
当所述进料均质片10、共振均质片20、出料均质片30依次叠置形成均质喷嘴时,其内部结构如图3所示,首先将经过初步粉碎的物料加压至150Mpa,然后将经过初步粉碎并加压至150Mpa的物料经进料均质片10的两个进料口121送入,通过共振均质片20的振腔口221的共振,将物料均匀粉碎至纳米尺寸,然后经出料均质片30的出料口321送出,从而得到纳米尺寸的物料。
综上所述,本实用新型运用特殊的结构与创新的空间形态,提供一具有成本低、加工制作简单,并具有使用效果好的化学气相沉积金刚石均质喷嘴。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的