[实用新型]化学气相沉积金刚石均质喷嘴无效

专利信息
申请号: 00236609.6 申请日: 2000-05-24
公开(公告)号: CN2423289Y 公开(公告)日: 2001-03-14
发明(设计)人: 周兵;陈继锋;刘志平;刘广录;郭松寿;张柏春 申请(专利权)人: 北京天地东方金刚石技术有限责任公司
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 1000*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 化学 沉积 金刚石 喷嘴
【说明书】:

实用新型是提供一种金刚石均质喷嘴,特别是一种化学气相沉积(CVD)金刚石均质喷嘴。

金刚石均质喷嘴是用于纳米材料生产的关键部件。

目前习用的金刚石均质喷嘴,是为两片结构如图1所示,包括一前片1及一后片2,在前片1上开有两个进料孔11,在前片1的一面两个进料孔11之间开有一沟槽12,该沟槽12将两个进气孔连通;在后片2的中心开有一出气孔21,当前片1及后片2叠置时,该进料孔11经沟槽12可与出气孔21连通,而形成喷嘴。前述的喷嘴具有如下缺点,首先该喷嘴所采用的材料是为天然金刚石材料,不仅价格昂贵,而且因其硬度高所以加工非常困难,尤其是前片1上的沟槽12加工最为困难。因其加工难度大所以沟槽12的尺寸不易掌握,也就是加工精度不高,所以喷嘴的质量很难提高。

本实用新型的主要目的在于提供一种化学气相沉积金刚石均质喷嘴,其具有便于加工、质量稳定的优点。

本实用新型的另一目的在于提供一种化学气相沉积金刚石均质喷嘴,因其采用化学气相沉积(CVD)金刚石,所以具有成本低的优点。

缘以达成上揭目的,本实用新型所提供的一种化学气相沉积金刚石均质喷嘴,是包含有:一进料均质片,在该进料均质片的中间位置开有两个进料口;一共振均质片,在该共振均质片的中间位置开有一共振腔口;一出料均质片,在该出料均质片的中间位置开有一出料口;所述进料均质片、共振均质片、出料均质片依次叠置形成均质喷嘴。

其中该进料均质片、共振均质片、出料均质片均为由化学气相沉积金刚石制作的圆形,在该进料均质片、共振均质片、出料均质片的外周焊接制作有一圈金属环形基体。

其中该进料均质片中间的两个进料口为圆形或椭圆形。

其中该共振均质片中间的共振腔口为长方形或两端为弧形的矩形。

其中该出料均质片中间的出料口为圆形或椭圆形。

有关本实用新型的详细构造、功用及特点,可由以下实施例配合附图的详细说明而得以充分了解,其中:

图1是习用喷嘴的示意图;

图2是本实用新型喷嘴的分解图;

图3是图2的结构原理图,显示本实用新型的工作状态。

请参阅图2与图3所示,本实用新型化学气相沉积金刚石均质喷嘴包括有,一进料均质片10,在该进料均质片10的中间位置开有两个进料口121,该两个进料口121为圆形或椭圆形;

一共振均质片20,在该共振均质片20的中间位置开有一共振腔口221,该共振腔口221为长方形或两端为弧形的矩形;

一出料均质片30,在该出料均质片30的中间位置开有一出料口321,出料口321为圆形或椭圆形。

将所述进料均质片10、共振均质片20、出料均质片30依次叠置形成均质喷嘴;其中该进料均质片10、共振均质片20、出料均质片30均为由化学气相沉积金刚石制作的圆形,在该进料均质片10、共振均质片20、出料均质片30的外周焊接制作有一圈金属环形基体111。

本实用新型的工作过程为:

当所述进料均质片10、共振均质片20、出料均质片30依次叠置形成均质喷嘴时,其内部结构如图3所示,首先将经过初步粉碎的物料加压至150Mpa,然后将经过初步粉碎并加压至150Mpa的物料经进料均质片10的两个进料口121送入,通过共振均质片20的振腔口221的共振,将物料均匀粉碎至纳米尺寸,然后经出料均质片30的出料口321送出,从而得到纳米尺寸的物料。

综上所述,本实用新型运用特殊的结构与创新的空间形态,提供一具有成本低、加工制作简单,并具有使用效果好的化学气相沉积金刚石均质喷嘴。

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