[发明专利]电光学面板及其制造方法以及电光学装置和电子机器

权利要求书

1．一种电光学面板，其特征在于：包含相对的第1基板和第2基板，上述第1基板具有通过该第1基板的缘部比上述第2基板的缘部向侧方突出而形成的突出部，上述第2基板侧的上述第1基板的表面构成为凹凸面，在上述突出部的上述凹凸面之上设置平坦化层，在上述平坦化层之上设置标记。

2．按权利要求1所述的电光学面板，其特征在于：上述标记是对准标记或工程管理标记。

3．按权利要求1或2所述的电光学面板，其特征在于：上述电光学面板是液晶面板。

4．按权利要求3所述的电光学面板，其特征在于：上述液晶面板是反射型液晶面板。

5．按权利要求3所述的电光学面板，其特征在于：上述液晶面板是半透过型液晶面板。

6．按权利要求1～5的任一权项所述的电光学面板，其特征在于：上述平坦化层的材质由光学特性与上述第1基板相近的材质构成。

7．按权利要求6所述的电光学面板，其特征在于：上述平坦化层的材质是丙烯酰基、聚酰亚铵、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚对苯二甲酸乙二酯。

8．按权利要求1～7的任一权项所述的电光学面板，其特征在于：上述标记的材质是以氧化铟锡、铝、银、铬、钽或镍为主体的材质。

9．按权利要求1～7的任一权项所述的电光学面板，其特征在于：上述电光学面板进而包含在上述第1基板之上形成的电极层，上述电极层和上述标记由同一种材质构成。

10．按权利要求9所述的电光学面板，其特征在于：上述电极层和上述标记的材质是以氧化铟锡、钽、铝、银、铬或镍为主体的材质。

11．按权利要求1～7的任一权项所述的电光学面板，其特征在于：上述电光学面板进而包含在上述第1基板上形成的反射层，上述反射层和上述标记由同一种材质构成。

12．按权利要求11所述的电光学面板，其特征在于：上述反射层和上述标记的材质是以铝、银、铬或镍为主体的材质。

13．按权利要求1～12的任一权项所述的电光学面板，其特征在于：上述电光学面板进而包含着色层和用于保护该着色层的保护层，上述平坦化层和上述保护层由同一种材质构成。

14．一种包含相对的第1基板和第2基板、而上述第1基板具有通过该第1基板的缘部比上述第2基板的缘部向侧方突出而形成的突出部并且上述第2基板侧的上述第1基板的表面构成为凹凸面的电光学面板的制造方法，其特征在于包括以下的工序：

(a)在上述突出部的上述凹凸面之上形成平坦化层的工序，

(b)在上述平坦化层之上形成标记的工序。

15．按权利要求14所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述标记是对准标记或工程管理标记。

16．按权利要求14或15所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述电光学面板是液晶面板。    

17．按权利要求16所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述液晶面板是反射型液晶面板。

18．按权利要求16所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述液晶面板是半透过型液晶面板。

19．按权利要求14～18的任一权项所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述平坦化层的材质由光学特性与上述第1基板相近的材质构成。

20．按权利要求19所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述平坦化层的材质是丙烯酰基、聚酰亚铵、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚对苯二甲酸乙二酯。

21．按权利要求14～20的任一权项所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述标记的材质是以氧化铟锡、铝、银、铬、钽或镍为主体的材质。

22．按权利要求14～20的任一权项所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：是进而包含在上述第1基板之上形成的电极层的电光学面板的制造方法，上述标记和上述电极层在同一工序中形成。

23．按权利要求22所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述标记和上述电极层的材质是以氧化铟锡、铝、银、铬、钽或镍为主体的材质。