[发明专利]积层陶瓷电子元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 00126443.5 申请日: 2000-06-30
公开(公告)号: CN1289135A 公开(公告)日: 2001-03-28
发明(设计)人: 大盐稔 申请(专利权)人: 太阳诱电株式会社
主分类号: H01G4/30 分类号: H01G4/30;H01G4/12;H01G13/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 魏金玺,邰红
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 陶瓷 电子元件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种积层陶瓷电子元件的制造方法,该方法是具有使在内部由陶瓷层(7)和内部电极(5)、(6)的数层交替积层的未烧成陶瓷积层体(3)进行烧成的工序的积层陶瓷电子元件的制造方法,其特征在于,相对于单位时间内送入烧成炉内的未烧成陶瓷积层体(3)的有机物量,以200-1200L/g的环境气流量比,将环境气通入烧成炉(21)内,同时在烧成炉(21)内对陶瓷积层体(3)进行烧成。

2.根据权利要求1记载的积层陶瓷电子元件的制造方法,特征是相对于单位时间内送入烧成炉内的未烧成陶瓷积层体(3)的有机物量,环境气的流量比为300~900L/g。

3.根据权利要求1或2中记载的积层陶瓷电子元件的制造方法,特征是使烧成炉(21)内的环境气与陶瓷积层体(3)的送入方向相反的方向通入。

4.根据权利要求1-3中任一项记载的积层电容器的制造方法,特征是烧成炉内的环境气平均流速为5~50m/min。

5.根据权利要求1-4中任一项记载的积层电容器的制造方法,特征是烧成炉内环境气的平均流速为15~40m/min。

6.根据权利要求1-5中任何一项记载的积层陶瓷电子元件的制造方法,特征是从烧成炉(21)的两侧分别独立地供入环境气。

7.根据权利要求6记载的积层陶瓷电子元件的制造方法,特征是上述环境气的供入是从烧成炉(21)的供给管直接供入到烧成炉(21)内的。

8.根据权利要求1-7中任一项记载的积层陶瓷电子元件的制造方法,特征是将未烧成的陶瓷积层体(3)载置在棚板(13)、(14)上,将该棚板(13)、(14)送入烧成炉(21)内,对陶瓷积层体(3)烧成后,将棚板(13)、(14)从烧成炉(21)中取出。

9.根据权利要求8记载的积层陶瓷电子元件的制造方法,特征是将上述棚板(13)、(14)数层重叠,在棚板(13)、(14)和棚板(13)、(14)之间设置间隙。

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