[发明专利]用于叠层测量的方法和设备

权利要求书

1.一种用于测量第一图纹与第二图纹之间对准的方法，包括如下步骤：

分别产生第一图纹部分和第二图纹部分的第一数字图像和第二数字图像；并且

比较该第一数字图像与第二数字图像以计算第一图纹与第二图纹之间的对准。

2.如权利要求1所述的方法，还包括将第一图纹和第二图纹形成为具有彼此大致相等周期的重复图纹的步骤。

3.如权利要求1所述的方法，其中比较第一数字图像与第二数字图像的步骤包括如下步骤：

分别将第一数字图像和第二数字图像傅里叶变换以产生第一频谱和第二频谱；并且

计算该第一频谱与第二频谱之间的相位差。

4.如权利要求1所述的方法，还包括将第一图纹和第二图纹形成在晶片上的步骤。

5.如权利要求4所述的方法，其中形成第一图纹和第二图纹的步骤包括如下步骤：

将第一图纹部分形成在晶片上的非活性芯片区；并且

将第二图纹部分形成在晶片上的该非活性芯片区且与第一图纹部分相邻。

6.如权利要求5所述的方法，其中产生第一数字图像和第二数字图像的步骤还包括如下步骤：

将第一图纹部分和第二图纹部分的图像形成在一个摄像机中；并且

分别将对应于第一图纹部分的第一部分图像和对应于第二图纹部分的第二部分图像数字化以产生第一数字图像和第二数字图像。

7.如权利要求4所述的方法，其中形成第一图纹和第二图纹的步骤还包括将第二图纹部分形成为叠加在第一图纹部分上。

8.如权利要求7所述的方法，其中产生第一数字图像和第二数字图像的步骤还包括如下步骤：

将摄像机聚焦在一第一面上以形成第一图纹部分的第一图像；

将摄像机聚焦在一第二面上以形成第二图纹部分的第二图像；并且

分别将第一图像和第二图像数字化以产生第一数字图像和第二数字图像。

9.如权利要求1所述的方法，还包括如下步骤：

将第一图纹形成在晶片上；

将第二图纹形成在掩模上；

形成掩模的部分的第一图像；

将晶片图像叠加在掩模上；并且

形成所述掩模部分和叠加其上的图像部分的第二图像。

10.如权利要求9所述的方法，其中产生第一数字图像和第二数字图像的步骤还包括如下步骤：

将第一图像数字化以产生第二数字图像；

将第二图像数字化以产生第三数字图像；并且

从第三数字图像减去第二数字图像以产生第一数字图像。

11.一种叠层测量方法，包括如下步骤：

在第一面上形成第一阵列图纹；

在第二面上形成第二阵列图纹；

由第一阵列图纹部分产生第一几何频谱；

由第二阵列图纹部分产生第二几何频谱；并且

计算第一几何频谱与第二几何频谱之间的相位差。

12.如权利要求11所述的方法，其中形成第一阵列图纹和第二阵列图纹的步骤还包括将所述第一阵列图纹和第二阵列图纹形成在晶片上，使第一阵列图纹部分和第二阵列图纹部分位于晶片上活性芯片区之外并且彼此相邻。

13.如权利要求12所述的方法，其中产生第一几何频谱和产生第二几何频谱的步骤还包括如下步骤：

将第一阵列图纹部分和第二阵列图纹部分的图像形成在一个摄像机中；

对该图像的第一部分进行傅里叶变换以产生第一几何频谱，图像的第一部分对应于第一阵列图纹部分；并且

对该图像的第二部分进行傅里叶变换以产生第二几何频谱，图像的第二部分对应于第二阵列图纹部分。

14.如权利要求11所述的方法，其中形成第一阵列图纹和形成第二阵列图纹的步骤还包括如下步骤：

将第一阵列图纹形成在晶片上；并且

将第二阵列图纹形成在该晶片上第一阵列图纹之上，使第二阵列图纹部分叠加在第一阵列图纹部分之上。