专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高精度氮化铝覆铝基板的蚀刻方法-CN202310103071.3有效
  • 欧阳鹏;王斌;丁慕禹;韩正尧;葛荘 - 江苏富乐华半导体科技股份有限公司
  • 2023-02-13 - 2023-09-15 - C23F1/02
  • 本发明公开了一种高精度氮化铝覆铝基板的蚀刻方法,涉及陶瓷基板制备领域,旨在解决基板图形容易绝缘失效的问题,其技术方案是:步骤一,图形制备:制备蚀刻图形,取氮化铝覆铝母板基板显影得到需要蚀刻的图形边缘间隙;步骤二,超声空化蚀刻:置于超声振动条件下的酸性蚀刻液中进行浸泡式蚀刻,蚀刻后形成图形边缘间隙;步骤三,图形油墨包边印刷:图形印刷,将感光油墨按照图形网框图形对位印刷到基板上;步骤四,水平蚀刻:取步骤三基板,置于水平蚀刻线下进行酸性刻蚀液蚀刻至陶瓷基底,完成图形精密蚀刻。本发明的一种高精度氮化铝覆铝基板的蚀刻方法能够获得高蚀刻因子,平滑的蚀刻图形轮廓。
  • 一种高精度氮化铝覆铝基板蚀刻方法
  • [发明专利]一种异型多面铝材表面花纹蚀刻处理工艺-CN202310662610.7在审
  • 陈仁俊;朱彤 - 上海奢藏科技有限公司
  • 2023-06-06 - 2023-09-12 - C23F1/02
  • 本发明涉及金属表面蚀刻处理技术领域,具体地说,涉及一种异型多面铝材表面花纹蚀刻处理工艺。其包括以下步骤:对铝合金型材表面进行UV墨水涂层涂抹后,将型材的打印面朝上放置于UV打印区内;打印设备电脑上设置数值,选择打印花纹图案,开始打印形成蚀刻花纹纹理保护层;将型材放置于碱水槽内,通过碱腐蚀法对型材进行刻蚀,直至型材表面产生蚀刻花纹;将型材放置于酸溶液内浸泡,去除蚀刻花纹纹理保护层后进行着色完成表面处理。本发明中通过把UV打印机的4个喷头都改成白色,利用白色墨水中添加的钛白粉,通过来回喷墨打印进行快速堆积,形成有效深度的蚀刻保护膜,进而为蚀刻打下了关键基础。
  • 一种异型多面表面花纹蚀刻处理工艺
  • [发明专利]一种具有孔隙和高深宽比沟槽的工件制作方法及金属工件-CN202211213707.1有效
  • 王文涛;张亮旗;王世权 - 东莞赛诺高德蚀刻科技有限公司
  • 2022-09-30 - 2023-08-22 - C23F1/02
  • 本发明涉及散热金属工件技术领域,尤其是指一种具有孔隙和高深宽比沟槽的工件制作方法及通过该方法制得的金属工件,该方法包括以下步骤:A.对金属工件进行清洁,然后对金属工件进行掩膜;B.对金属工件喷淋蚀刻液,通过蚀刻液对金属工件未掩膜位置进行蚀刻以形成预设槽;C.对金属工件进行清洗;D.通过离子束撞击金属工件的预设槽而形成沟槽;沟槽的侧壁因金属颗粒附着而形成孔隙结构;E.对金属工件进行清洗。本发明通过对蚀刻形成的预设槽进行离子束加工,通过离子束撞击而让预设槽形成深度更大的沟槽,且因离子束撞击而溅射的金属颗粒会附着在沟槽两侧以填补被侧蚀产生的凹陷,并在沟槽两侧形成孔隙结构,使得所制得的产品毛细性能更佳。
  • 一种具有孔隙高深沟槽工件制作方法金属
  • [发明专利]高精度模具纹理蚀刻工艺-CN202310032166.0在审
  • 任志同 - 模德模具(东莞)有限公司
  • 2023-01-06 - 2023-08-08 - C23F1/02
  • 本发明公开了一种高精度模具纹理蚀刻工艺;通过采用将保护胶喷涂在模具内壁的方式,并配合采用五轴激光设备在喷涂的保护胶层上切割出需要进行保护的区域;相较于人工的贴胶以及切割方式,不仅且切割的区域范围和位置精度更高,而且喷涂的方式平整度也更好,使得后续产品的加工质量也能得到保证,同时人工成本以及劳动强度都大大降低,以及保护胶中的聚酯树脂可以有效增加保护胶的抗喷砂性能,提升保护胶对模具保护区域的保护强度,同时环氧磷酸酯还可以增加保护胶的粘性,防止保护胶在蚀刻过程中脱落,进一步保证了纹理加工的品质。
  • 高精度模具纹理蚀刻工艺
  • [发明专利]自蚀刻铜面键合剂及其制备方法-CN202111561232.0有效
  • 王立中;陈修宁;李晨庆;黄志齐;王淑萍;黄京华 - 昆山市板明电子科技有限公司
  • 2021-12-20 - 2023-07-18 - C23F1/02
  • 本发明公开了一种自蚀刻铜面键合剂及其制备方法,属于印制线路板生产用化学品技术领域。该键合剂包括氧化剂、含氮杂环共聚物、含羟基溶剂、有机酸和余量去离子水,其中氧化剂为二价铜盐、三价铁盐、过氧化物和过硫酸盐中至少一种,含氮杂环共聚物为由含氮杂环类单体、烷基丙烯酸酯类单体和亲水性单体按质量比为(20~90):(5~50):(5~15)经自由基共聚制备所得聚合物,含羟基溶剂为醇类化合物和醇醚类化合物中至少一种,有机酸为有机羧酸。该键合剂将化学微蚀与化学键合二种技术结合,能有效提高铜表面与不同光致抗蚀剂间粘附力并保持稳定,对铜表面形貌改变小,同时又能满足细线路加工与高频率信号传输对铜表面形貌的要求。
  • 蚀刻铜面键合剂及其制备方法
  • [发明专利]基于印刷设备版辊铜层的喷淋式高精细深度腐蚀工艺-CN202310500734.5有效
  • 罗宗宏;林裕荣 - 汕头市精工东捷制版有限公司
  • 2023-05-06 - 2023-07-18 - C23F1/02
  • 本发明属于版辊加工技术领域,具体是基于印刷设备版辊铜层的喷淋式高精细深度腐蚀工艺,包括版辊安装、喷头纵向定位、喷淋腐蚀、版辊表面喷洗,以及版辊固定旋转机构使待加工版辊继续旋转,旋转结束后取下加工完成的版辊;本发明是通过版辊固定旋转机构实现对版辊的固定,保证加工过程的稳定进行,有助于实现对版辊外表面的均匀喷淋腐蚀,并通过采用氯化铜对版辊表面铜层进行腐蚀,不会有污泥状的生成物产生,不易造成过滤系统和喷嘴堵塞,还原简单且反应快,以及通过蚀刻液再生来控制溶液的氧化‑还原电位和溶液中Cu1+的浓度,在实现蚀刻液循环利用的同时还保证腐蚀效率和腐蚀效果。
  • 基于印刷设备版辊铜层喷淋精细深度腐蚀工艺
  • [发明专利]一种精密防侧蚀的蚀刻区域控制方法-CN202011608493.9有效
  • 马文勇 - 苏州运宏电子有限公司
  • 2020-12-29 - 2023-07-07 - C23F1/02
  • 本发明公开一种精密防侧蚀的蚀刻区域控制方法,采用分段处理的方法,设置了第一次丝网印刷、第一次蚀刻、第二次丝网印刷和第二次蚀刻,第一次丝网印刷时暴露边沿线区域并由第一次蚀刻构建边沿蚀刻槽,并在第二次丝网印刷时填充边沿蚀刻槽,使得第二次蚀刻时边沿蚀刻槽收到油墨料的填充保护,本发明的优点在于在蚀刻区域的边沿通过设置边沿蚀刻槽并对其进行填充,使得在蚀刻加工金属表面图样时边沿蚀刻槽内的油墨料起到隔断蚀刻液的作用,有效避免发生侧蚀,规避了突沿结构的产生,极大的提高了蚀刻作业的精密度。
  • 一种精密防侧蚀蚀刻区域控制方法
  • [发明专利]蒸镀掩模的制造方法-CN202211681072.8在审
  • 石坂壮二;藤本进二 - 富士胶片株式会社
  • 2022-12-26 - 2023-06-30 - C23F1/02
  • 本发明的课题在于提供一种分辨性优异的蒸镀掩模的制造方法。所述蒸镀掩模的制造方法依次包括如下工序:准备具有第1面且在与上述第1面相反的位置具有第2面的金属层;将包括伪支撑体和转印层的感光性转印材料与上述金属层进行贴合而在上述金属层的上述第1面上依次配置上述转印层及上述伪支撑体;剥离上述伪支撑体;对上述转印层进行图案曝光;对上述转印层实施显影处理而形成抗蚀图案;对未被上述抗蚀图案覆盖的上述金属层实施蚀刻处理而形成从上述金属层的上述第1面延伸至上述金属层的上述第2面的贯穿孔;及去除上述抗蚀图案。
  • 蒸镀掩模制造方法
  • [发明专利]一种掩膜条的制作方法-CN202310095217.4在审
  • 张麒麟;黄逸臻;孙玉俊 - 福建华佳彩有限公司
  • 2023-02-07 - 2023-06-02 - C23F1/02
  • 本发明公开了一种掩膜条的制作方法,涉及异形显示OLED技术领域。所述方法包括:步骤1、在掩膜条两面采用蚀刻工艺制作出矩形非通孔蚀刻区;步骤2、将对应于有效镀膜区的矩形非通孔蚀刻区再次蚀刻,形成通孔且贯穿至设计开孔尺寸,同时有效镀膜区的掩膜条厚度减薄;所述有效镀膜区用于蒸镀材料穿过并沉积至TFT基板电路形成有效显示区域;剩余的矩形非通孔蚀刻区则为蚀刻缓冲区。本发明方法制作的掩膜条在有效镀膜区外侧形成外围为矩形的蚀刻缓冲区的同时对有效镀膜区进行减薄,能减少张网时掩膜条受力不均匀现象,改善掩膜条的褶皱现象引起的混色不良,同时改善掩膜条与玻璃基板贴合情况,从而提高产品良率。
  • 一种掩膜条制作方法
  • [发明专利]一种金属掩膜版的蚀刻方法及金属掩膜版-CN202211629439.1在审
  • 徐华伟;沈洵 - 浙江众凌科技有限公司
  • 2022-12-19 - 2023-05-30 - C23F1/02
  • 本发明公开一种金属掩膜版的蚀刻方法及金属掩膜版,包括S500:在初步蚀刻完的金属掩膜版基材的第一主表面上完整涂覆抗蚀剂并填满第一凹陷区,在第二主表面上完整涂覆抗蚀剂并填满第二凹陷区;S600:第一主表面全面固化抗蚀剂,第二主表面制作出第三镂空区;S700:将第二主表面的第三镂空区蚀刻出第三凹陷区,第三凹陷区、第二凹陷区与第一凹陷区连通形成蚀刻孔,所述蚀刻孔贯穿金属掩膜版基材。本发明通过制程工艺方法,降低蚀刻的侧蚀量,使得金属掩膜版成品厚度仍维持金属掩膜版基材厚度,保证了成品的整体结构强度。
  • 一种金属掩膜版蚀刻方法
  • [发明专利]空气炸锅内锅表面经氮化形成的防锈不粘器具及制备方法-CN202211582991.X在审
  • 唐欣 - 浙江新唐实业有限公司
  • 2022-12-09 - 2023-04-28 - C23F1/02
  • 本发明公开空气炸锅内锅表面经氮化形成的防锈不粘器具的制备方法,包括以下步骤:S1、清洁不锈钢,除油喷砂;S2、粘贴遮挡网分割形成多个不连通的刻蚀区域;S3、刻蚀;S4、喷涂SiO2凝胶连续分布于不锈钢凹坑内表面;S5、去除遮挡网;S6、氮化,不锈钢凸出于SiO2凝胶的部分与氮原子接触氮化;同时凝胶在氮化温度下固化附着于凹坑表面并形成有孔SiO2层,气体渗氮经SiO2层的介孔与SiO2层下方的不锈钢接触氮化,形成处于不锈钢表面的连续的具有凹凸结构的氮化层;经本发明处理的不锈钢制得的不粘锅不粘性良好,高温使用后仍保持持久的不粘性。
  • 空气炸锅表面氮化形成防锈器具制备方法
  • [发明专利]一种选择蚀刻钨及氮化钛的蚀刻液-CN202110770187.3有效
  • 钟昌东;贺兆波;刘悦;张庭;冯凯;尹印;万杨阳;王书萍;李鑫;李金航 - 湖北兴福电子材料股份有限公司
  • 2021-07-07 - 2023-04-25 - C23F1/02
  • 本发明涉及一种选择蚀刻钨及氮化钛的蚀刻液。在本发明中,双氧水,双氧水稳定剂,硝酸,有机酸,蚀刻抑制剂,表面活性剂和去离子水构成钨、氮化钛蚀刻液。在蚀刻液对钨及氮化钛蚀刻的过程中,能够保持稳定的蚀刻速率和较大的选择比。带有氨基基团的联吡啶可以降低双氧水分解速率,稳定蚀刻速率;蚀刻抑制剂可以和金属原子以配位键的形式强烈地吸附在氮化钛的表面,形成一层致密的薄膜,减缓对氮化钛的蚀刻;表面活性剂可以调节蚀刻液与不同金属表面的界面张力,增大两相的接触,提高介质传递速率,从而调节蚀刻液的选择比。本发明的蚀刻液能以较高的蚀刻速率蚀刻金属钨,且能保持较高的选择比。
  • 一种选择蚀刻氮化

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