[发明专利]磁致电阻元件及其作为存储单元阵列内的存储元的应用有效

专利信息
申请号: 99812052.9 申请日: 1999-08-02
公开(公告)号: CN1323442A 公开(公告)日: 2001-11-21
发明(设计)人: S·施瓦茨尔 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01F10/08 分类号: H01F10/08;H01L43/08;G11C11/15;G11C11/155;G11C11/16
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 马铁良,张志醒
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 磁致电阻元件具有一个第1铁磁层元(11),一个非磁性层元(13)和一个第2铁磁层元(12),它们是如此安排的,非磁性层元(13)安排在第1铁磁层元(11)和第2铁磁层元(12)之间。第1铁磁层元(11)和第2铁磁层元(12)基本上具有同一材料,然而,它们通过以下方式在其平行于对非磁性层元(13)界面的截面不同,即至少在一维上具有不同尺寸。磁致电阻元件既适合于作传感元件也适合于作存储单元阵列的存储元。
搜索关键词: 致电 元件 及其 作为 存储 单元 阵列 应用
【主权项】:
1.磁致电阻元件,-其中,提供一个第1铁磁层元(11),一个非磁性层元(13)和一个第2铁磁层元,它们是如此安排的,使得非磁性层元安排在第1铁磁层元(11)和第2铁磁层元(12)之间,其中非磁性层元(13)对第1铁磁层元(11)和第2铁磁层元(12)各有一界面,-其中,第1铁磁层元(11)和第2铁磁层元(12)基本上具有同一材料,-其中,第1铁磁层元(11)和第2铁磁层元(12)各自在至少平行于非磁性层元(13)界面的一维具有不同尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于因芬尼昂技术股份公司,未经因芬尼昂技术股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99812052.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top