[发明专利]含固体催化剂的CMP淤浆无效
| 申请号： | 99807602.3 | 申请日： | 1999-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN1306560A | 公开（公告）日： | 2001-08-01 |
| 发明（设计）人： | 王淑敏;布赖恩·L·米勒 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/321;C23F3/00 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 巫肖南 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种化学机械抛光组合物,其含有氧化剂和至少一种固体,该组合物可与研磨剂或一种研磨垫结合用于除去底物的多重金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 固体 催化剂 cmp 淤浆 | ||
【主权项】：
1．一种含水的化学机械抛光组合物，包含至少一种氧化剂；和至少一种固体催化剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡伯特微电子公司，未经卡伯特微电子公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/99807602.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：获得修饰表型的方法和措施
- 下一篇：投影型显示装置
