[发明专利]修饰的脱乙酰氧基头孢菌素C合酶DAOCS及X射线结构无效

专利信息
申请号: 98813793.3 申请日: 1998-12-24
公开(公告)号: CN1284997A 公开(公告)日: 2001-02-21
发明(设计)人: C·J·肖菲尔德;J·E·巴尔德文;P·L·罗尔克;M·D·罗伊德;K·哈洛斯;I·安德松;J·哈杜;A·S·特尔维斯查范舍尔廷加;K·瓦勒加德;S·拉马斯瓦米 申请(专利权)人: 埃西斯创新有限公司
主分类号: C12N15/52 分类号: C12N15/52;C12N9/00;C12P35/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 卢新华,谭明胜
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文描述了脱乙酰氧基头孢菌素C合酶(DAOCS)的三维晶体结构。X射线坐标提供了DAOCS结构中的氨基酸的精确三维信息。这其中的某些氨基酸与铁和/或底物形成复合物。来自结构的信息用于修饰包括DAOCS,脱乙酰头孢菌素C合酶DAOC/DACS的头孢菌素生物合成途径的酶,经修饰使它们接受非天然底物(例青霉素G,V),从而促进β-内酰胺抗生素的产生。这些结构可用于预测其它2-酮戊二酸依赖的酶的结构,由此使得能设计抑制剂,以及用于例如氧化的氨基酸/肽的生产的新催化剂。在此提出并例举了对氨基酸残基的具体修饰。
搜索关键词: 修饰 乙酰 头孢菌素 daocs 射线 结构
【主权项】:
1.具有本文结构A或结构B的X射线坐标定义的结构的脱乙酰氧基头孢菌素C合酶(DAOCS)。
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